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UV硬化技術の基礎と硬化不良対策

UV硬化技術の基礎と硬化不良対策

大阪府 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、UV硬化技術の基礎としてUVラジカル硬化を中心に解説いたします。
また、酸素の硬化阻害、硬化収縮および黄変の原因と対策法について解説いたします。

開催日

  • 2012年6月8日(金) 12時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • UV硬化技術の基礎
  • 酸素の硬化阻害、硬化収縮および黄変の原因と対策
  • LEDの選択法
  • チオール・エンUV硬化法
  • ハイパーブランチポリマーの概要

プログラム

　UV硬化は最近では環境保全に役立ち、高速で経済的な表面加工技術として広く利用されるようになってきている。原理的およびプロセス的には簡単な技術である。すなわち、UV硬化技術の応用分野を考えて、光源および配合物 (フォーミュレーション〉の選択し、光を照射するだけである。したがって、新しくこの技術を利用する人にも決して難しい技術ではない。しかし、この技術の基礎原理をよく理解していないと思わぬところでつまずくことがある。
　本講座ではUV硬化技術の基礎としてUVラジカル硬化を中心に、詳しく紹介するとともに、実用面で課題である酸素の硬化阻害、硬化収縮および黄変について、その原因と対策法について解説する。最近のトピックスであるLEDの選択法、チオール・エンUV硬化法、ハイパーブランチポリマーなどについても解説する。

  1. はじめに
    UV硬化技術をいかに利用するか
    • 原理と特徴:
      • 光源、フォーミュレーション (配合物) および応用 (塗料、接着剤、インキなど)
  2. 光源の選択
    硬化を開始させるエネルギー源としての光源をどのように選択するか
    1. 光の特長:
      • 波長とエネルギー
    2. 光源の種類と選択:
      • 多波長光源 (赤外線を含む) (高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)
      • 単一波長光源 (LED) / LEDの現状と展望
    3. 赤外線は硬化でどのように利用されるか:長所と欠点
  3. UVラジカル硬化 V硬化の応用分野と配合物の選択をどうするか
    1. 開始剤の選択:
      • 光源の波長とマッチング
      • 着色物および紫外線吸収剤共存下での開始剤の選択
    2. オリゴマーおよびモノマーの選択
      • 硬い硬化物 (ハードコート) および軟らかい硬化物〈粘着剤〉のための配合物の選択:
        • モノマーおよびオリゴマーの構造と硬化物物性の関係
  4. UVラジカル硬化における課題と対策
    1. 酸素の硬化阻害とその対策:
      • 光強度、開始剤濃度、官能基濃度などの選択
      • アミン、エーテル類の添加
      • チオール・エンUV硬化の特長と欠点
    2. 硬化収縮とその対策:
      • モノマーおよびオリゴマーの構造〈アクリル当量〉と収縮率
      • デンドリマーおよびハイパーブランチポリマー (オリゴマー) の利用
  5. 黄変:UV硬化直後の黄変と硬化物の耐候性試験における黄変
    • 開始剤、重合禁止剤およびモノマーおよびオリゴマー由来の黄変とその対策
  6. UVイオン硬化の現状と展望
    • UVラジカル硬化の欠点を補う、UVカチオン硬化およびUVアニオン硬化の現状と展望
  7. おわりに:これからのUV硬化技術の展望
    • 質疑応答・名刺交換・個別相談
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会場

大阪市立中央会館

2F 第5会議室

大阪府 大阪市 中央区島之内2丁目12-31
大阪市立中央会館の地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
    • 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
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