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最新通信機器に求められる洗浄技術

最新通信機器に求められる洗浄技術

~問題点と対策例~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、最新の通信機器実装基板の製造工程で発生している問題点と、対策として導入した洗浄技術について解説いたします。

開催日

  • 2011年12月21日(水) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • スマートフォンなど通信機器の技術者、品質担当者
  • 通信機器・電子機器の洗浄に関連する技術者、品質担当者
  • 実装基板の洗浄工程で課題を抱えている担当者、管理者

修得知識

  • はんだとフラックスの基礎
  • 超薄型配線板の洗浄技術
  • 最新の通信機器実装基板の製造工程で発生している問題点と対策
    • はんだ濡れ不良
    • パーティクル発生 など

プログラム

 最新通信機器においては、高速通信に対応した洗浄精度を求められると同時にスマートフォンのように多機能に対応したデバイスをコンパクトに集約し高密度実装する必要性が求められる。
 また、鉛フリー化、さらにハロゲンフリー化により使用する素材にも大きな制限が加えられ、素材そのものや、それらを保護する目的で使用される材料を原因とする化学反応により、接合やモールドに不具合が生じる問題が多発している。
 最新通信機器に使われている実装基板の製造工程で発生している問題点とその対策として導入された洗浄技術について紹介する。

  1. はんだとフラックス
    1. フラックス主成分のロジンとは
    2. フラックスの組成と役割
    3. 温度プロファイルと各成分の役割
    4. 鉛フリー化およびハロゲンフリー化に伴う
      フラックス組成の変化と洗浄に及ぼす影響
  2. 超薄型配線板
    1. 超薄型配線板の量産洗浄技術
    2. チップ部品搭載薄型基板の狭間隙洗浄技術
  3. 金めっきのはんだ濡れ不良、パーティクル発生の問題
    1. 金めっきの問題解析
    2. 対応洗浄技術
  4. 積層マルチパッケージ基板
    1. 薄型COBおよびPoPの狭間隙洗浄技術
    2. OSP膜除去および酸化銅除去技術
    3. OSP膜を残した酸化銅除去技術およびフラックス除去技術
  5. 応用事例
    • 各種モジュール基板について事例紹介
  • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 前野 純一
    荒川化学工業(株) 機能材料事業部 営業部
    部付部長

会場

連合会館

5階 502会議室

東京都 千代田区 神田駿河台三丁目2-11
連合会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 40,000円 (税別) / 42,000円 (税込)
複数名
: 33,000円 (税別) / 34,650円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
本セミナーは終了いたしました。

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