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光学活性化合物の製造、取得技術と工業化プロセスの構築

光学活性化合物の製造、取得技術と工業化プロセスの構築

東京都 開催 会場 開催

以下、セミナーとの同時申し込みで特別割引にて受講いただけます。

概要

本セミナーでは、不斉合成を用いた光学活性化合物の製造、光学分割剤および分子構造・会合特性制御による光学活性物質の開発について詳解いたします。

開催日

  • 2011年12月21日(水) 12時30分 16時40分

受講対象者

  • 医薬品製造に関連する技術者、製造技術担当者、品質担当者
  • キラル化合物に関連する技術者、開発者、研究者

修得知識

  • 不斉合成を用いた光学活性化合物の製造
  • 光学分割剤および分子構造・会合特性制御による光学活性物質の開発

プログラム

第1部 不斉合成を用いた光学活性化合物の製造

(2011年12月21日 12:30~14:30)

 香料、医薬品中間体には、光学活性化合物が多い。
 従って、ほしいものだけを作るためには不斉合成の技術が必要になる。
 近年の環境問題との関連では、余分な廃棄物の出ない不斉触媒反応の開発が重要になっている。
 高砂香料工業の取り組みは、新規不斉触媒の開発を行い、それをどのようにして製品にまで持っていくのか、という問題解決への取り組みと言える。

  1. 全ての始まりはBINAP
  2. はじめに製品ありき (L-メントール)
    1. メントール合成の歴史 (高砂香料)
    2. 新規合成法に不斉合成法を採用した
    3. 決め手となる不斉触媒 (不斉異性化反応)
    4. スケールアップの問題点
  3. はじめに触媒ありき (4AA) 3.1 4AAとは
    1. 決め手となる不斉触媒 (不斉水素化反応)
    2. 速度論的分割の成功
    3. 2立体特異的酸化反応
    4. スケールアップの問題点
  4. はじめに製品ありき (セラミド)
    1. セラミドとは
    2. 決め手となる不斉触媒 (不斉水素化反応)
    3. スケールアップの問題点
  5. その他製品
  6. 触媒ビジネスの新製品
  7. まとめと今後の課題
  • 質疑応答・名刺交換

第2部 光学分割剤および分子構造・会合特性制御による光学活性物質の開発

(2011年12月21日 14:40~16:40)

 光学分割におけるキラル認識は精密な分子構造制御と分子間相互作用によって行われている。近年の結晶構造解析の進歩によって多くの分子結晶の構造が明らかにされ、科学的な観点ばかりでなく実用面においても重要な情報が得られるようになった。
 本講演では、医薬中間体の原料として重要なキラル低分子の光学分割、そして近年学術的に着目されているキラル超分子会合体の光学分割について、分子構造と相互作用の観点から述べる。

  1. 光学分割
    1. 光学分割と不斉合成
    2. ジアステレオマー塩法
  2. キラル低分子
    1. 光学分割例
    2. 単結晶X線構造解析
    3. 分子間相互作用
    4. ジアステレオマー塩の結晶構造
  3. キラル超分子会合体
    1. 超分子会合体の合成
    2. キラル超分子アニオンの光学分割
    3. キラル超分子カチオンの光学分割
  4. これからのキラルテクノロジー
    1. エントロピー制御
    2. キラルスイッチング
  • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 堀 容嗣
    高砂香料工業(株) 新事業開発研究所 第4部
    部長
  • 片桐 洋史
    山形大学 大学院理工学研究科 バイオ化学工学専攻
    助教

会場

大田区産業プラザ PiO

6階 D会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 40,000円 (税別) / 42,000円 (税込)
複数名
: 33,000円 (税別) / 34,650円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
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