特許情報分析(パテントマップ)から見た

酸化物半導体技術開発実態分析調査報告書

～テーマ別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「酸化物半導体」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
酸化物半導体技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「酸化物半導体」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). どの酸化物半導体関連企業にどのような技術の公開があるか、
(2). 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 最近10年間における関連技術の消長はどのようになっているか、
(4). 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
(5). 直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
(6). 各企業がどの弁理士(特許事務所)を利用しているか、
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、「酸化物半導体」に関する最近10年余(国内公開日:2003年1月1日～2012年11月30日)に及ぶ公開特許について、特許検索ASPサービスSRPARTNER」((株)日立システムズ製)を使用し、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
特許情報公報の総数は 3,990件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 全般分析
- B. 上位20出願人比較分析
- C. 上位5出願人個別分析
- D. 特定2社比較分析(1位半導体エネルギー研究所、4位シャープ)
- E. 上位20特許分類分析
- F. 特定特許分類分析
- G. キーワード分析(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)
- H. 直近2年間の動向分析(2010年12月～2012年11月)
- I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

「酸化物半導体」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移(年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移(年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング(上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング(上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード(5F110)の技術分類別件数(観点×数字)
- A-15. 2位Fタームテーマコード(5F151)の技術分類別件数(観点×数字)
- A-16. 出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-17. FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-19. Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-20. 出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差7件以上)
- A-21. 発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差19件以上)
- A-22. FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差6件以上)
- A-23. FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
- A-24. Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差100件以上)
- A-25. FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差15名以上)
- A-26. FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差30名以上)
- A-27. Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差100名以上)
B. 上位20出願人比較分析
- B-1. 公開件数比較(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
- B-2. 公開件数の推移(累計)
- B-3. 共同出願人数の推移(累計)
- B-4. 新規発明者数の推移(累計)
- B-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
- B-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
- B-7. 新規Fターム分類数の推移(累計)
- B-8. 新規キーワード数の推移(累計)
- B-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- B-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- B-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- B-12. 上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較
- B-13. 公開件数占有率
- B-14. 審査・権利状況
- B-15. 公開件数の伸びと1位Fターム分類[5F110GG01]に関する構成率比較
- B-16. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
C. 上位5出願人個別分析
- C-1-1. 【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-2. 【フジクラ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-1-3. 【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-5. 【大日本印刷】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-1. 【半導体エネルギー研究所】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-2. 【フジクラ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-3. 【富士フイルム】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-4. 【シャープ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-5. 【大日本印刷】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-3-1. 【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-2. 【フジクラ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-3. 【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-5. 【大日本印刷】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-1. 【半導体エネルギー研究所】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-2. 【フジクラ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-3. 【富士フイルム】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-4. 【シャープ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-5. 【大日本印刷】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-5-1. 【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-2. 【フジクラ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近35)
- C-5-3. 【富士フイルム】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-5. 【大日本印刷】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-6-1. 【半導体エネルギー研究所】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-2. 【フジクラ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-3. 【富士フイルム】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-4. 【シャープ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-5. 【大日本印刷】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-7-1. 【半導体エネルギー研究所】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-2. 【フジクラ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-3. 【富士フイルム】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-4. 【シャープ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-5. 【大日本印刷】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-8-1. 【半導体エネルギー研究所】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-2. 【フジクラ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-3. 【富士フイルム】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-4. 【シャープ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-5. 【大日本印刷】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-9-1. 【半導体エネルギー研究所】共同出願人:0人
- C-9-2. 【フジクラ】共同出願人との連携
- C-9-3. 【富士フイルム】共同出願人:0人
- C-9-4. 【シャープ】共同出願人との連携
- C-9-5. 【大日本印刷】共同出願人との連携
D. 特定2社比較分析(1位半導体エネルギー研究所、4位シャープ)
- D-1. 2社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
- D-2. 2社の上位10Fターム分類別公開件数の推移(年次)
- D-3. 2社の半導体エネルギー研究所上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-4. 2社のシャープ上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-5. 2社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-6. 2社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-7. 半導体エネルギー研究所の公開件数伸び変遷
- D-8. シャープの公開件数伸び変遷
- D-9. 2社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
- D-10. Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
E. 上位20特許分類分析
- E-1. FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-2. FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-3. Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-6. Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-9. Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-12. Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-15. Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F. 特定特許分類分析
- F-1. 特定特許分類分析(1)
  - F-1-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-2. 特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-3. 特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-4. 特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-5. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-6. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-7. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-8. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-9. 特定FIサブグループ分類H01L29/78の公開件数伸長率変遷
  - F-1-10. 特定FIサブグループ分類H01L31/04の公開件数伸長率変遷
  - F-1-11. 特定Fターム分類5F110GG01の公開件数伸長率変遷
  - F-1-12. 特定Fターム分類5F151AA14の公開件数伸長率変遷
  - F-1-13. 特定FIサブグループ分類H01L29/78の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-14. 特定FIサブグループ分類H01L31/04の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-15. 特定Fターム分類5F110GG01の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-16. 特定Fターム分類5F151AA14の出願人別公開件数ランキング(上位50)
- F-2. 特定特許分類分析(2)
  - F-2-1. 特定Fターム分類5F110GG関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-2. 特定Fターム分類4M104AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-3. 特定Fターム分類4M104BB関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-4. 特定Fターム分類5F083JA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-5. 特定Fターム分類5F110GG関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-6. 特定Fターム分類4M104AA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-7. 特定Fターム分類4M104BB関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-8. 特定Fターム分類5F083JA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-9. 特定Fターム分類5F110GG関連と4M104AA関連との公開件数相関
  - F-2-10. 特定Fターム分類5F110GG関連と4M104BB関連との公開件数相関
  - F-2-11. 特定Fターム分類5F110GG関連と5F083JA関連との公開件数相関
  - F-2-12. 特定Fターム分類4M104AA関連と4M104BB関連との公開件数相関
  - F-2-13. 特定Fターム分類4M104AA関連と5F083JA関連との公開件数相関
  - F-2-14. 特定Fターム分類4M104BB関連と5F083JA関連との公開件数相関
  - F-2-15. 特定Fターム分類5F110GG関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-16. 特定Fターム分類4M104AA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-17. 特定Fターム分類4M104BB関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-18. 特定Fターム分類5F083JA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-19. 特定Fターム分類5F110GG関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-20. 特定Fターム分類4M104AA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-21. 特定Fターム分類4M104BB関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-22. 特定Fターム分類5F083JA関連の公開件数伸長率変遷
G. キーワード分析
- G-1. キーワード別公開件数ランキング(上位100)
- G-2. キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)
- G-3. キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差60件以上)
H. 直近2年間の動向分析(2010年12月～2012年11月)
- H-1. 出願人別公開件数ランキング(上位20)
- H-2. 出願人別公開件数占有率(上位20)
- H-3. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-4. FIサブグループ分類1位H01L29/78と他分類との相関
- H-5. Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-6. Fターム分類1位5F110GG01と他分類との相関(上位20)
- H-7. 上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- H-8. 上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関
I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
- I-1. 弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
- I-2. 弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)
- I-3. 上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- I-4. 上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2. パテントチャート編

(1). 東京工業大学の時系列チャート分析(2003年～2012年)
(2). ルネサスエレクトロニクスの時系列チャート分析(2003年～2012年)
(3). 東京工業大学の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)
(4). ルネサスエレクトロニクスの上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)

3. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人統合リスト
資料2 : 半導体エネルギー研究所の2012年1月～11月における全公報244件の審査権利状況リスト
資料3 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 248ページ

ISBNコード

ISBN978-4-86483-179-6

発行年月

2013年2月

販売元

tech-seminar.jp

価格

80,727円 (税別) / 88,800円 (税込)

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開始日時		会場	開催方法
2025/4/24	パワー半導体用SiCの単結晶成長技術およびウェハ加工技術の開発動向		オンライン
2025/4/24	半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術		オンライン
2025/4/25	半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術		オンライン
2025/4/30	自動車の電動化に向けたシリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向		オンライン
2025/5/30	開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策	東京都	会場・オンライン

発行年月
2013/12/15	パワー半導体技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/12/15	パワー半導体技術開発実態分析調査報告書
2013/2/10	酸化物半導体技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15	半導体・液晶パネル製造装置9社技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15	半導体・液晶パネル製造装置9社技術開発実態分析調査報告書
2012/4/15	Intel 【米国特許版】技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15	半導体露光装置技術開発実態分析調査報告書
2010/6/5	半導体技術10社技術開発実態分析調査報告書
2008/9/1	半導体製造用炭化ケイ素技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2008/9/1	半導体製造用炭化ケイ素技術開発実態分析調査報告書
1999/10/29	DRAM混載システムLSI技術
1992/11/11	VLSI試験/故障解析技術
1990/6/1	LSI周辺金属材料・技術
1988/10/1	高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術
1988/2/1	半導体の故障モードと加速試験
1985/12/1	アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ)
1985/11/1	アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ)

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