技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
特許情報分析 (パテントマップ) から見た
半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
～注目技術別動向予測シリーズ～
概要
本調査報告書は、半導体製造用炭化ケイ素に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書の書籍版 もご用意しております。
ご案内
1.調査目的
半導体製造用炭化ケイ素を取り巻く市場や技術環境は目まぐるしく変化しており、競争に打ち勝つには、どの部分に焦点を絞り込むべきか、どの分野が着目されているのかなど、一歩先を行く開発戦略が必要となる。調査報告書はこうした要求に応えるために技術戦略上の基礎データを提供することが目的である。
2.特許情報の収集方法
平成10年 (1998年) から平成19年 (2007年) までの10年間に公開された公開特許について、「特許検索ASPサービスSRPARTNER」 ( (株) 日立情報システムズ製) を使用し、検索、収集した。報告書作成にはパテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」 (インパテック (株) 製) を使用した。特許情報公報の総数は2,477件である。
3.報告書の構成
- 1. 書誌データによる分析 (過去10年)
- A. ランキング分析 (リスト)
- B. 時系列分析
- C. ニューエントリ・リタイアリ分析
- D. 上位出願人と分類の関係分析
- E. 上位出願人のユニークな技術分析
- 2. 技術開発の概説
- 3. 技術データの分類体系
- 4. 技術データによる分析 (最近公開の431件)
- F.技術分類分析
- F-1 技術分類別公開件数ランキング
- F-2 技術分類相互の公開件数相関
- F-3 上位40出願人と技術分類の公開件数相関
- F.技術分類分析
- 5. 今後の技術開発動向の予測
- 5-1 書誌データによる分析予測
- 5-1-1 出願人の技術開発動向予測
- 5-1-2 公開技術の技術開発動向予測
- 5-2 技術データによる分析予測/対象、形態、課題、手段・方法
- 5-1 書誌データによる分析予測
パテントマップ実例、本文中の実際のページ例
目次
1. 書誌データによる分析
- A. ランキング分析 (リスト)
- 1. 出願人別公開件数ランキング (上位200)
- 2. FI サブクラス分類別公開件数ランキング (上位100)
- 3. FI メイングループ分類別公開件数ランキング (上位100)
- 4. FI サブグループ分類別公開件数ランキング (上位100)
- 5. Fターム テーマコート゛分類別公開件数ランキング (上位100)
- 6. Fターム分類別公開件数ランキング (上位300)
- B. 時系列分析
- B-1. 上位50出願人別公開件数の推移 (最近10年)
- B-2. 上位40 FI サブクラス筆頭分類別公開件数の推移 (最近10年)
- B-3. 上位40 FI メイングループ筆頭分類別公開件数の推移 (最近10年) )
- B-4. 上位40 FI サブグループ筆頭分類別公開件数の推移 (最近10年)
- B-5. 上位40 Fターム テーマコード筆頭分類別公開件数の推移 (最近10年)
- B-6. 上位100 Fターム筆頭分類別公開件数の推移 (最近10年)
- C. ニューエントリ・リタイアリ分析
- C-1-1. 出願人別参入・撤退状況 (最初40)
- C-1-2. 出願人別参入・撤退状況 (最近40)
- C-2-1. FI サブクラス分類別出現・消失状況 (最初40)
- C-2-2. FI サブクラス分類別出現・消失状況 (最近40)
- C-3-1. FI メイングループ分類別出現・消失状況 (最初80)
- C-3-2. FI メイングループ分類別出現・消失状況 (最近80)
- C-4-1. FI サブグループ分類別出現・消失状況 (最初120)
- C-4-2. FI サブグループ分類別出現・消失状況 (最近120)
- C-5-1. Fターム テーマコード分類別出現・消失状況 (最初80)
- C-5-2. Fターム テーマコード分類別出現・消失状況 (最近80)
- C-6-1. Fターム分類別出現・消失状況 (最初200)
- C-6-2. Fターム分類別出現・消失状況 (最近200)
- D. 上位出願人と分類の関係分析
- D-1. 上位40出願人と上位20 FI サブクラス筆頭分類の公開件数相関
- D-2. 上位40出願人と上位20 FI メイングループ筆頭分類の公開件数相関
- D-3. 上位40出願人と上位20 FI サブグループ筆頭分類の公開件数相関
- D-4. 上位40出願人と上位20 Fターム テーマコード筆頭分類の公開件数相関
- D-5. 上位40出願人と上位60 Fターム筆頭分類の公開件数相関
- E. 上位出願人のユニークな技術分析
- E-1. * 独自FI サブクラス分類別公開件数ランキング
- E-2. * 独自FI メイングループ分類別公開件数ランキング
- E-3. * 独自FI サブグループ分類別公開件数ランキング
- E-4. * 独自Fターム テーマコード分類別公開件数ランキング
- E-5. * 独自Fターム分類別公開件数ランキング (上位100)
- E-6. * 独自キーワード別公開件数ランキング (上位200) (「*」は、上位5出願人 (住友電気工業、松下電器産業、ソニー、東芝セラミックス、東京エレクトロンソフトウェア・テクノロジーズ) が該当)
2. 技術開発の概説
- 2-1. 出願人の概況
- 2-2. 公開技術の概況
3. 技術データの分類体系
4. 技術データによる分析
- F. 技術分類分析
- F-1. 技術分類別公開件数ランキング
- F-1-1. ～F-1-4 [A～D]技術分類別公開件数ランキング
- F-2. 技術分類相互の公開件数相関
- F-2-1. ～F-2-6 [A～D技術分類相互の公開件数相関
- F-3. 上位40出願人と技術分類の公開件数相関
- F-3-1. ～F-3-4 上位40出願人と[A～D]技術分類の公開件数相関
- F-1. 技術分類別公開件数ランキング
5. 今後の技術開発の動向の予測
- 5-1. 書誌データによる分析予測
- 5-2. 技術データによる分析予測
参考資料
- 1. FI サブクラス分類リスト
- 2. FI メイングループ分類リスト
- 3. FI サブグループ分類リスト
- 4. Fターム テーマコード分類リスト
- 5. Fターム分類リスト
- 6. 出願人統合リスト
- 7. パテントマップの種別と見方
出版社
お支払い方法、返品の可否は、必ず注文前にご確認をお願いいたします。
体裁・ページ数
CD-ROM 183ページ
発行年月
2008年9月
販売元
tech-seminar.jp
価格
21,764円 (税別) / 23,940円 (税込)
本CD-ROMには、対象公開特許情報データは添付されません。
対象公開特許情報データは 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書の書籍版 に付属しております。
これから開催される関連セミナー
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2025/12/15 | Si、SiC、GaN、Ga2O3パワーデバイスの技術開発動向と日本の現状 | オンライン | |
| 2025/12/15 | 半導体パッケージ技術の進化とそれを支える要素技術 | オンライン | |
| 2025/12/15 | 技術者・研究者が知っておきたい経営・知財の要点 | オンライン | |
| 2025/12/16 | 技術者・研究者が知っておきたい経営・知財の要点 | オンライン | |
| 2025/12/16 | はじめての化学系特許出願 | オンライン | |
| 2025/12/17 | ダイヤモンド半導体の現状・課題・最新動向 | オンライン | |
| 2025/12/18 | 新規事業テーマ、アイデア創出における生成AI活用の仕方 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 生成AIによる特許実務の効率化とプロンプト設計 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 後発でも負けない特許戦略と先行特許攻略法 | オンライン | |
| 2025/12/19 | コンテンツ「制作」に関する契約書のチェックポイントと法律実務 | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2025/12/19 | 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 無効審判・無効抗弁の基本と実践 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 後発でも負けない特許戦略と先行特許攻略法 | オンライン | |
| 2025/12/23 | PFAS (有機フッ素化合物) 規制の動向と半導体産業への影響 | オンライン | |
| 2026/1/6 | 無効審判・無効抗弁の基本と実践 | オンライン | |
| 2026/1/6 | 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 | オンライン | |
| 2026/1/9 | 共同研究開発における契約書のチェックポイントと留意点 | オンライン | |
| 2026/1/15 | 生成AI時代のパテントマップ実践法 | オンライン | |
| 2026/1/19 | 半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド | オンライン | |
| 2026/1/20 | 共同研究開発における契約書のチェックポイントと留意点 | オンライン |
関連する出版物
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2012/1/15 | 光学フィルム 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2012/1/10 | 放電加工機 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/12/10 | 計測機器関連18社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/12/10 | 製薬大手5社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/12/5 | 住友電気工業 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/12/1 | 建設大手9社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/30 | NTTグループ8社 (NTTを除く) 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/25 | インキ業界10社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/25 | アクリル酸エステル 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/20 | カテーテル 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/15 | 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/11/9 | IBM (米国特許版) 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/10/15 | 通信機器大手3社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/10/10 | 酸化チタン 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/10/5 | 電子部品大手8社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/10/1 | 大日本印刷 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/9/25 | クリーンルーム 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/9/20 | 三菱化学 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/9/15 | 電線7社 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2011/9/10 | 旭化成グループ9社 技術開発実態分析調査報告書 |