技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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生成AIの爆発的成長は、半導体産業を従来のサプライチェーン競争から、国家と巨大プラットフォーマーが覇権を賭けて資源を奪い合う新たな地政学的戦場へと変貌させた。AIデータセンターでは、GPUのみならず、CPUやASICなどのロジック半導体、HBM・DRAM・NAND・HDDなどのメモリ、さらには電力・水・土地といったインフラ資源までもが、前例のない速度で争奪の対象となっている。この巨大なAI経済圏を支える核心技術がGAA (Gate – All – Around) であり、2025年から2030年にかけての半導体覇権の行方を決定づける「基盤技術」である。
本講演では、GAAをめぐる国際競争を、TSMC、Samsung、Intel、Rapidusの4社の動向を軸に読み解く。TSMCは157台のEUVを使いこなし、スマホ依存からAI中核企業へと急速な構造転換を遂げつつある。SamsungはN2やHBMで厳しい局面に立たされ、Intelは巨額赤字の中で「18A」「14A」による再起を国家主導で目指す。Rapidusは2nm量産を掲げるが、顧客・EUV台数・人材・エコシステムの整備に大きな課題を抱える。さらに、OpenAI、Microsoft、Google、Amazon、Metaなどのハイパースケーラーが、前払い契約によって先端半導体を囲い込む「札束による調達戦争」を展開し、市場構造と国家政策を大きく揺るがしている現状を分析する。併せて、AIデータセンターの爆発的増設が世界的なメモリ不足を引き起こし、HBM・DR AM・NANDの価格高騰を招いている構造も明らかにする。本講演は、GAAを単なる半導体技術ではなく、AI経済圏を支配する“文明選択”として捉え、日本がどの領域で戦い、どこで勝つべきかを見極めるための羅針盤を提示するものである。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2026/3/4 | 先端半導体デバイスにおけるCu/Low-k多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術の基礎〜最新開発動向 | オンライン | |
| 2026/3/4 | プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 | オンライン | |
| 2026/3/5 | 先端半導体パッケージの放熱・冷却技術と熱マネジメント | オンライン | |
| 2026/3/5 | チップレット実装テスト、評価技術 | オンライン | |
| 2026/3/6 | 生成AIの隆盛に伴う半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版) | オンライン | |
| 2026/3/6 | 半導体市場の動向と主要メーカーの開発状況 | オンライン | |
| 2026/3/10 | 半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術 | オンライン | |
| 2026/3/11 | 半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術 | オンライン | |
| 2026/3/13 | 半導体パッケージ技術の最新動向 | オンライン | |
| 2026/3/13 | プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 | オンライン | |
| 2026/3/16 | 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/3/16 | 半導体パッケージ技術の最新動向 | オンライン | |
| 2026/3/16 | 半導体市場の動向と主要メーカーの開発状況 | オンライン | |
| 2026/3/16 | クライオエッチングの反応メカニズムと高アスペクト比加工技術 | オンライン | |
| 2026/3/16 | シリコン・パワー半導体におけるCMPの技術動向 | オンライン | |
| 2026/3/17 | 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/3/17 | 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 | オンライン | |
| 2026/3/17 | 先端パッケージングの最前線 | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/3/18 | 先端パッケージングの最前線 | オンライン | |
| 2026/3/18 | CESとSPIEから読み解く電子デバイス2030年 | オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2024/12/27 | 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向 |
| 2024/11/13 | 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート |
| 2024/9/13 | 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート |
| 2024/6/19 | 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術 |
| 2024/4/30 | 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術 |
| 2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
| 2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
| 2023/4/28 | 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発 |
| 2022/11/29 | 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術 |
| 2022/10/31 | 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 |
| 2022/6/17 | 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望 |
| 2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版) |
| 2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 |
| 2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
| 2021/6/18 | 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2020/7/17 | 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2019/7/19 | 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
| 2018/1/10 | SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント |