技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2025年9月3日〜13日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2025年9月3日まで承ります。
本セミナーでは、プロセスプラズマの基礎から解説し、プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅 (反応) 過程、活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理・実践方法、活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について詳解いたします。
プラズマを用いたプロセス技術は、現代社会を支える半導体デバイスや機械・電気部品の製造現場で広く利用され、近年では医療や農水産などのバイオ応用についても研究されています。気体の放電現象を利用するプラズマは、その内部において物理・化学的な作用をもたらす数多くの中性活性粒子や荷電粒子が生成され、存在しています。それら粒子の相互的な反応により高度なプラズマプロセスが実現されることから、本技術の継続的な発展や新たな革新にはそれら粒子の計測・モニタリングを通じた反応メカニズムの理解とその最適化が必要です。
そこで本講座では、まずプラズマ内における活性粒子の生成・消滅に関わる反応過程など基礎的な理解も深めて頂きながら、それら粒子の分析に利用される各種計測法の原理と具体的な実施例について説明させて頂きます。以上を通じて、プラズマプロセス内の活性粒子の計測とモニタリングを通じた反応メカニズムの理解、さらには得られた知識を基にしたプロセス条件の最適化を検討して頂く契機となることを期待します。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/8/27 | ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向 | オンライン | |
2025/9/3 | プラズマプロセスにおける活性粒子の計測、モニタリングとプロセスの最適化 | オンライン | |
2025/9/19 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
2025/9/30 | プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ | オンライン | |
2025/10/9 | 電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用 | オンライン | |
2025/10/28 | クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応 | オンライン |
発行年月 | |
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2025/5/26 | 表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2025/5/26 | 表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (書籍版) |
2025/3/31 | エッチングの高度化と3次元構造の作製技術 |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2022/10/31 | 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 |
2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2021/3/8 | プラズマ技術 |
2019/12/20 | 高分子の表面処理・改質と接着性向上 |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/3/5 | 大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |