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「半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/5/12 超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法 オンライン
2025/5/12 高薬理活性物質を扱うマルチパーパス設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 オンライン
2025/5/13 LIB製造における塗工・乾燥のコツ、ドライ方式の最新動向 オンライン
2025/5/13 医薬品不純物管理のための許容量 (PDE) 設定の基礎と実践 オンライン
2025/5/14 洗浄バリデーションにおける「残留許容値の設定」「ホールドタイム (DHT/CHT/SDT/SHT) の留意点」「ワーストケースロケーション (WCL) とスワブ数の例」「回収率テストの事例」 オンライン
2025/5/22 LIB製造における塗工・乾燥のコツ、ドライ方式の最新動向 オンライン
2025/5/29 環境モニタリングの測定時およびアラート・アクションレベル設定時の留意点 オンライン
2025/5/30 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2025/6/27 サプリメント (機能性表示食品) におけるGMP (製造・品質管理の基準) 実施にむけた理解と実践 オンライン
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