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ゾル-ゲル法の基礎と機能性材料作製への応用および新展開

ゾル-ゲル法の基礎と機能性材料作製への応用および新展開

オンライン 開催

視聴期間は2024年12月3日〜10日を予定しております。
お申し込みは2024年12月6日まで承ります。

概要

本セミナーでは、ゾル-ゲル法の基礎と材料選択、合成法、物性制御、応用展開、研究動向について、講師の研究成果を中心に詳しく解説いたします。

開催日

  • 2024年12月6日(金) 10時30分 2024年12月10日(火) 16時30分

受講対象者

  • ゾル-ゲル法に関連する技術者
    • 表面処理 (撥水、親水)
    • マイクロ・ナノパターニング
    • 伝導性材料
    • 燃料電池
    • セラミックス
    • ガラス
    • 二酸化チタンの製造 など
  • 種々の形状の機能性材料に携わる技術者、研究開発者、生産部門の方
    • バルク体
    • メンブレイン
    • ファイバ
    • コーティング膜
    • 微粒子 など

修得知識

  • ゾル-ゲル法の基礎
  • ゾル-ゲル法の応用
    • ゾル-ゲル法による撥水、親水コーティング
    • ゾル-ゲル法によるマイクロ・ナノパターニング
    • ゾル-ゲル法による伝導性材料の作製と燃料電池への応用

プログラム

 ゾル-ゲル法は、ガラス、セラミックス、無機有機ハイブリッド、あるいはナノコンポジットを液相から合成する優れた方法です。本方法によれば、バルク体、メンブレイン、ファイバ、コーティング薄膜あるいは微粒子など、種々の形状の機能性材料を作製することができます。特に、薄膜は基板の表面高機能化技術として実用性も高く注目されています。また、イオン伝導体の合成や電気化学素子の構築にも有用です。
 本セミナーでは、「ゾル-ゲル法の基礎と機能性材料設計への応用および新展開」と題して、ゾル-ゲル法の基礎と材料選択、合成法、物性制御、応用展開、研究動向について、我々の研究成果を中心に詳しく解説いたします。

  1. ゾル-ゲル法の基礎
    1. ゾル-ゲルプロセスと特徴
    2. ゾル-ゲル法によるガラスの合成
    3. ゾル-ゲル法によるコーティング膜の作製
    4. ゾル-ゲル法によるセラミックスの合成
    5. ゾル-ゲル法による無機-有機複合体の合成
    6. ゾル-ゲル法による多孔体の合成
    7. インデンテーション法によるゲル膜の力学物性評価
  2. ゾル-ゲル法による撥水、親水コーティング
    1. 親水・撥水の基礎知識
    2. チタニアナノ微結晶分散薄膜の低温合成と光触媒・防曇などへの応用
    3. 外場を用いたナノ微結晶薄膜の組織制御
    4. アナターゼ分散メソポーラス薄膜の低温合成
    5. フリップ-フロップ機構による撥水性・水中撥油性表面の設計
    6. 撥水性と光触媒活性を兼ね備えた高機能表面の設計
    7. 液相成膜を用いたエレクトロウェッティング
  3. ゾル-ゲル法によるマイクロ・ナノパターニング
    1. ゾル-ゲル微細加工プロセスの基礎知識
    2. マイクロ・ナノインプリント技術によるパターニング
    3. フォトリソマイクロ・ナノパターニング
    4. 固体表面の濡れ性を用いた新規なパターニングプロセス
    5. 無機-有機ハイブリッド膜の光誘起構造変化を利用したパターニング
    6. 銀含有無機-有機ハイブリッドゲル膜のホログラム記録材料への応用
    7. 液相からの相分離型マルチフェロイック材料の作製
  4. ゾル-ゲル法によるイオン伝導性材料の作製と電気化学素子への応用
    1. 固体中におけるイオン伝導の基礎
    2. 中温低加湿条件で高い導電率を示すホスホシリケートゲル
    3. プロトン伝導性無機-有機複合体シートを用いた中温作動型燃料電池
    4. ゾル-ゲル法と交互積層法によるプロトン伝導性コア-シェル粒子の作製
    5. 水酸化物イオン伝導性固体電解質
    6. 水酸化物イオン伝導性固体電解質を用いた全固体金属/空気二次電池
    7. 液相加振法による硫化物系リチウムイオン伝導体の作製と全固体リチウムイオン電池への応用
    8. 液相加振法による硫化物系ナトリウムイオン伝導体の作製
  5. 複合酸化物ゲルのメカニカルミリング処理による新規複合体の合成 (時間の許す範囲で紹介)
    1. メカニカルミリング処理による新規複合体の合成例
    2. シリカ-チタニア系ゲルのメカニカルミリングによる結晶化
    3. メカニカルミリングによる複合酸化物ゲルからの新規結晶相析出
  6. まとめと今後の展望
    • 質疑応答

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

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  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2024年12月3日〜10日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
本セミナーは終了いたしました。

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