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半導体洗浄の基礎、注意するポイントとトラブル防止策

半導体洗浄に関する基礎からトラブル防止策まで一日で習得

半導体洗浄の基礎、注意するポイントとトラブル防止策

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概要

本セミナーでは、先端材料の洗浄方法を構成する要素、目的別「清浄」の定義、キレイにするための表面の取扱い、流れの見抜き方・使い方・作り方・改善法、洗浄条件設計の盲点、生産プロセスに共通して潜在する工学現象について、豊富な経験に基づき詳しく解説いたします。

開催日

  • 2024年10月3日(木) 10時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • ウエハメーカー・デバイスメーカーの生産技術、研究開発、技術営業担当者
  • 半導体洗浄に関わる装置、装置部材、装置部品、薬液、などのメーカーの生産技術、研究開発、技術営業担当者

修得知識

  • 先端材料の洗浄方法を構成する要素
  • 目的に合わせた「清浄」の定義
  • キレイにするための表面の取扱い
  • 流れの見抜き方・使い方・作り方・改善法
  • 洗浄条件設計の盲点
  • 生産プロセスに共通して潜在する工学現象 (流れ・気泡などの動きと設計)

プログラム

　半導体洗浄に用いる薬液、水流、超音波の役割を直感的に理解することを目指して、基礎現象と要点からトラブル防止策まで一日で説明します。
　半導体における「清浄」とは、次の工程に活かせる面を整えることです。それを意識した上で化学反応、水の流れと超音波が作る表面状態を理解すると、実務的な方策が見えて来ます。特に、水流と気泡の動きなどを動画で眺めると、洗浄では何をしていて、何をどうしたら良いのかが感じ取れます。
　本セミナーでは、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れ、超音波で生まれる水流と気泡の動きを動画を見て感覚をつかむことができます。さらに今後のために、極めて微細なパターンを洗浄する際に見落としがちなことも考えてみます。まとめでは、トラブルを防ぐための視点と対策を紹介します。工学の初歩から応用のつながりまで説明しますので、半導体以外の精密洗浄や洗浄以外で流体を扱うプロセス技術者にも参考になります。

  1. 洗う理由
    • 汚れは何?
    • いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 洗浄の4要素:温度
    • 時間
    • 化学
    • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス (付着・脱離・引き剥がす・乾かす)
      1. 表面現象とプロセス (付着状態と除去法)
      2. 薬液
        • RCA
        • SPM
        • HF
        • BHF
        • HF+H2O2
        • HF+HCl
        • O3
        • HCl+O3
        • 機能水
      3. 新提案の洗浄方法紹介
      4. 薬液設計の考え方
        • FEOL
        • BEOL
        • CMP後
      5. 物理的手段
        • 超音波
        • 二流体ジェット
        • ロールブラシ
        • ペンシルブラシ
      6. 酸性・アルカリ洗浄液の特徴
      7. 残留物質と膜の間に生じる反応
      8. 洗浄後の表面保護
        • 酸化膜
        • 水素終端
      9. 渇き残り (ウォーターマーク)
      10. 乾燥方法
        • IPA蒸気
        • マランゴニ
        • ロタゴニ
        • 新提案の方法
      11. パターン倒れを減らす方法
      12. 洗浄工程・装置の例
        • RCA
        • UCT
        • IMEC
      13. ドライ洗浄
      14. 超臨界流体洗浄
    2. 流れ、熱、拡散、反応 (洗う=汚れを動かす操作)
    3. 装置内流れの種類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    4. 流れの可視化観察 (「流れ」と「拡散」の感覚を動画で)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ
        • 観察動画と計算例
        • 回転数
        • ノズルスイング
      2. 化学反応の例 (酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流を最適化
        • 入口と出口の工夫例
        • 90度に噴出させる簡便法
        • 粒子排出速度向上
      3. ウエハ挿入と取出しにおける汚れの動き
    3. 超音波の働き、水と気泡の動き (観察動画)
      1. 超音波とは、効果と役割、照射方式
      2. 出力と水の動き、気泡の大きさと動き
      3. 超音波の効果
        • 加速・流れ・気泡
        • 周波数選択
      4. 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
  7. 洗浄の評価方法
    1. 実験・計算を用いたPDCAサイクル
    2. 試料の例と表面観察方法
  8. 狭い空間の洗浄
    1. 液の侵入と濡れ、親水性・疎水性の選択
    2. 狭い空間における反応の速度
    3. 微細パターンの総表面積 (実際に洗っている面積≫ウエハ面積)
  9. まとめ:困った時の視点と対策 (境界層を壊そう)
  10. 困らないために (地球環境の視点)
    • 質疑応答
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講師

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主催

株式会社TH企画 (TH企画セミナーセンター)
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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 40,000円 (税別) / 44,000円 (税込)

複数名同時申込割引について

複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。

  • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
  • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 80,000円(税別) / 88,000円(税込)
  • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 120,000円(税別) / 132,000円(税込)

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    印刷物は後日お手元に届くことになります。
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  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
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  • アーカイブ配信の視聴期間は2024年10月10日〜16日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は別途、送付いたします。
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