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ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策

オンライン 開催 個別相談付き

概要

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

開催日

  • 2023年3月22日(水) 13時00分 16時30分

プログラム

 ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板や LSI および液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。しかし、ウェットエッチングには、濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性などの様々な要因が関わっており、高精度化のためには、それぞれを最適化することが必要です。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。
 本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。

  1. ウェットエッチングの基礎
    1. 加工技術としての位置づけ
      • 設計値とシフト量
    2. 基本プロセスフロー
      • 前処理
      • 表面洗浄
      • エッチング液
      • マスク除去
      • 洗浄
    3. プロセス支配要因
      • 濡れ
      • 律速
      • 反応速度
      • エッチング機構
    4. 等方性エッチング
      • アンダーカット
    5. 結晶異方性エッチング
      • 結晶方位依存性
    6. 表面エネルギー理論による界面浸透解析
      • 拡張エネルギーS
      • 円モデル
    7. 処理装置
      • 液循環
      • ディップ
      • シャワー
      • スピンエッチ
      • フィルタリング
  2. アンダーカット形状コントロール
    1. 支配要因
      • 界面濡れ性
      • 応力集中
      • 液循環
      • マスク耐性
    2. 形状コントロール
      • エッチングラインの高精度化
    3. 高精度形状計測
      • 断面SEM
      • 定在波法
      • 光干渉法
      • X線CT
  3. トラブル要因と解決方法 (最短の解決のために)
    1. マスクパターンの剥離
      • 付着エネルギーWa及び剥離要因
    2. エッチング液の濡れ不良
      • ピンニング不良
    3. エッチング開始点の遅れ
      • コンタクトラインのVF変形
    4. ホールパターンの気泡詰まり
      • 界面活性剤
    5. エッチング表面の荒れ
      • 気泡
      • 異物
    6. 金属汚染
      • RCA洗浄
    7. 液中酸化
      • 溶存酸素
    8. 再付着防止
      • DLVO理論
      • ゼータ電位
    9. 乾燥痕
      • マランゴニー対流
      • IPA蒸気乾燥
  4. 質疑応答
    • 日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます
    • 参考資料
      • 表面エネルギーによる濡れ・付着性解析 (測定方法)

講師

  • 河合 晃
    長岡技術科学大学
    名誉教授

主催

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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 40,000円 (税別) / 44,000円 (税込)
複数名
: 18,000円 (税別) / 19,800円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

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アカデミック割引

  • 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)

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