技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

開催日

  • 2021年12月22日(水) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • 半導体洗浄技術を構成している要素・要点を知りたい技術者
  • 半導体洗浄技術の課題を理解しているが、その解決方法を模索している技術者

修得知識

  • 半導体洗浄に関わる知識と手法、洗浄時間と効果の向上
    • 化学工学の基礎 (工業生産プロセスの主要要素を成す流れ・熱・拡散などの考え方)
    • 流れの実感 (簡易可視化実験 (実演) )
    • 液体の流れを見抜いて使う考え方
    • 流れの改善により工程短縮、品質向上などを進める方法
    • プロセスの限界を見極め、それを乗り越えるための考え方
  • 半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であること

プログラム

 半導体洗浄の基礎現象から困った時の視点と対策まで説明します。洗浄とは何のために何をどうすることか?「清浄・きれい」の意味は何か?を改めて考えると、意外なほど工程と現象が見えて来ます。
 ここでは、簡単な流れの例を動画で見て基礎現象の感覚をつかみ、湿式洗浄の代表的装置 (枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機) の流れを可視化観察動画と計算例で解説します。超音波の効果についても動画を見るとイメージが湧いて来ます。まとめでは、足元をすくわれた時の視点と対策を簡潔に説明します。化学工学の基礎と応用の視点から説明しますので、半導体以外の洗浄をしている技術者や、洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

  1. 洗う理由: 汚れは何? いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報
    • 半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
      • こする
      • 乾かす
    2. 流れ、熱、拡散、反応
    3. 装置内流れの種類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    4. 流れの可視化観察 (簡単な例を動画で紹介)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 化学反応の例
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流の最適化 (変えてみた例)
    3. バッチ式洗浄機における超音波の働き (観察)
  7. まとめ:困った時の視点と対策

講師

  • 羽深 等
    横浜国立大学 大学院 理工学府 化学・生命系理工学専攻
    教授

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 22,500円(税別) / 24,750円(税込)となります。

  • Eメール案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • Eメール案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アカデミック割引

  • 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2022/1/26 EVシフト・カーボンニュートラルに向けたSi・SiC・GaNパワーデバイス技術ロードマップと業界展望 オンライン
2022/1/26 グラフェンの合成とセンサを中心にした機能性デバイスの開発 オンライン
2022/1/27 洗浄バリデーション実務の必修ポイント習得講座 オンライン
2022/1/28 半導体技術におけるウェットプロセスの基礎、制御とトラブル対策 オンライン
2022/1/28 半導体過剰投資による価格大暴落&大不況への警鐘とその対策の羅針盤 オンライン
2022/2/1 測定技術 実測を通して学ぶパワエレ回路・デバイス・計測技術 オンライン
2022/2/10 半導体洗浄のメカニズムと微小パーティクルの除去、清浄度評価 オンライン
2022/2/16 半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点 オンライン
2022/2/22 電子機器の熱設計と放熱技術 オンライン
2022/2/24 機能水洗浄のメカニズムと進め方、機能水の選定、不純物分析 オンライン
2022/2/24 通信用半導体のパッケージング技術動向 オンライン
2022/2/25 半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術 オンライン
2022/3/3 5G・次世代自動車に対応するSiC/GaNパワーデバイスの技術動向と課題 オンライン
2022/3/9 光半導体のパッケージング、封止技術と今後の技術要求 オンライン
2022/3/25 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術 東京都 会場・オンライン
2022/5/23 パワーデバイス 半導体物性・デバイス特性・回路応用をつなげて学ぶ オンライン
2022/6/24 測定技術 実測を通して学ぶパワエレ回路・デバイス・計測技術 オンライン
2022/9/2 パワーデバイス 半導体物性・デバイス特性・回路応用をつなげて学ぶ オンライン

関連する出版物

発行年月
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2021/3/30 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2019/7/19 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
2018/1/10 SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書
2012/4/15 Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2010/6/5 半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書
2009/4/5 洗浄剤 技術開発実態分析調査報告書
2009/4/5 洗浄剤 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)