技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、洗浄の基礎、原理から解説し、乾式・湿式の複合洗浄、洗浄不良の原因と対策について詳解いたします。
本セミナーでは洗浄の概構想、理論等を用いた詳細設計、現場評価・管理、不良対応を幅広く説明いたしますので、洗浄全体を理解いただくとともに、品質向上・コスト低減活動の一助になればと思っております。
洗浄の概要では、それぞれの洗浄方法の持つ特徴をベースに、装置や設備 (純水、排水等) を考慮しトータルで基本構成を決める方法を紹介していきます。
次に洗浄メカニズムを基に基礎解析をしながら具体的な洗浄液の選定もしくは調整方法、洗浄装置の設計の注意点を説明いたします。現在の貴社工程の良否判断にも使えます。
しかし、このように基本が確立されている洗浄工程でも量産では変動要素があるため日々の管理が必要になります。現場でできる洗浄品質等の簡易評価法とともに、工程管理項目や記録のポイント、装置や純水設備のメンテナンス等の注意点を紹介します。
また、洗浄不良と対策例を示しながら対応方法の基本を、陥りがちな行動を含め説明します。洗浄不良は後工程でわかる場合も多いので注意が必要です。
最後に、高品質洗浄への取り組みとして、洗浄理論で使用する各種データーの取得方法やそれらを使っての洗浄シミュレーション例題を提示します。また希薄な薬液と室温で精密洗浄できる機能水洗浄の紹介を行います。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/5/30 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン | |
2024/5/30 | 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 | オンライン | |
2024/5/31 | GMP工場の設備設計および維持管理のポイント | オンライン | |
2024/6/13 | 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 | オンライン | |
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2024/7/4 | リスクマネジメント/ワーストケースアプローチに基づく洗浄バリデーション実施 (残留限度値・DHT/CHT設定など) と残留物の評価法 | オンライン | |
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2024/8/19 | 半導体デバイスの物理的洗浄手法 | オンライン | |
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発行年月 | |
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2024/4/8 | ウォータージェット技術 技術開発実態分析調査報告書 |
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2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2022/6/17 | 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (追補版) |
2021/3/30 | 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ |
2019/4/24 | 洗浄バリデーション実施ノウハウと実務Q&A集 |
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