本セミナーでは、洗浄する目的から基本に立ち返ります。洗うとは如何なることで何のためなのか、半導体の場合にきれいとは何なのか、どのような方法で、どのような状態にすればきれいなのかを考えてみます。ここでは特に、洗浄という一連の工程を、現象と項目ごとに分類して理解して行き、何故洗うのか、普通に洗うことと半導体の洗浄の違いは何か、どのように仕上げたら良いのか、足元をすくわれるとしたら何なのか、を解説し、対策を取る際の考え方と方法を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。

1. 洗う理由:汚れは何? いつ、どこからなぜやって来る?
2. 一般の洗浄
   • 洗浄の4要素
     • 温度
     • 時間
     • 化学
     • 力学
3. 半導体の洗浄に特有のこと
4. 先端技術情報 (半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
5. 半導体洗浄の基礎現象
   1. 表面現象
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす)
   2. 化学工学
      • 流れ
      • 熱
      • 拡散
      • 反応
   3. 装置内流れの種類
6. 洗浄機内の流れと反応
   1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 化学反応の例
   2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察と計算)
      2. 水流を最適化 (変える)
   3. 超音波の働きと水の動き (観察)
7. まとめ:課題解決の要素
• 質疑応答・名刺交換