技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積での高品質膜の達成のため、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。
山形大学ではこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構理解の達成を目標とします。さらに最新研究成果として3D – CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/5/29 | ぬれ性のメカニズムと制御・測定技術 | オンライン | |
2024/5/29 | 化粧品粉体の基礎と表面処理 | オンライン | |
2024/5/29 | 半導体パッケージ技術の基礎と課題解決およびFOWLP等の最新技術動向 | オンライン | |
2024/5/29 | フィルムへの塗工技術とプロセス最適化、トラブル対策 | オンライン | |
2024/5/29 | ドライエッチングのメカニズムと最先端技術 | オンライン | |
2024/5/30 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン | |
2024/5/30 | 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 | オンライン | |
2024/5/30 | 次世代半導体パッケージング・実装技術動向と市場展望 | オンライン | |
2024/5/31 | 研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工 | オンライン | |
2024/6/3 | 車載半導体の最新技術と今後の動向 | オンライン | |
2024/6/3 | 防汚コーティング技術の総合知識 | オンライン | |
2024/6/4 | プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応 | オンライン | |
2024/6/5 | 顔料の分散安定化と使いこなし術 | オンライン | |
2024/6/5 | 半導体封止材の最新技術動向と設計評価技術 | オンライン | |
2024/6/6 | めっき技術の基礎と品質トラブル対策 | 東京都 | 会場 |
2024/6/7 | めっきの基礎および不良要因とその対策 | オンライン | |
2024/6/7 | 塗布膜乾燥の基本とプロセス・現象・本質の理解&最適化と欠陥・トラブル対策 | オンライン | |
2024/6/10 | 塗工 (スロットダイ、グラビア、バー、コンマ) の基礎と応用およびトラブル対策 | オンライン | |
2024/6/10 | SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向 | オンライン | |
2024/6/11 | ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用 | オンライン |
発行年月 | |
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1990/6/1 | LSI周辺金属材料・技術 |
1988/10/1 | 高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術 |
1988/2/1 | 半導体の故障モードと加速試験 |
1987/11/1 | 最新小型モータ用材料の開発・応用 |
1986/11/1 | プラスチック光学部品コーティング技術 |
1986/3/1 | 光学部品の加工・測定技術 |
1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |