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UV硬化型樹脂の基礎と硬化過程の測定法及び評価・解析手法
UV硬化型樹脂の基礎と硬化過程の測定法及び評価・解析手法
東京都 開催
会場 開催
PC実習付き
本セミナーは終了いたしました。
開催日
- 2017年8月28日(月) 10時30分 ～ 16時30分
受講対象者
- 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
- ナノインプリント
- 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
- 印刷インキの乾燥
- 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
- 光ファイバ等の保護コーティング
- 光造形
- 3Dプリンター
- ジェルネイル等の装飾品 など
- 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
- 紫外線硬化処理で課題を抱えている方
修得知識
- UV硬化樹脂の硬化過程の測定原理
- Real Time FT-IR
- フォトレオメータ
- レーザー変位計
- 収縮率
- シミュレーションによるUV硬化樹脂の反応率と収縮率の推定
- 模擬UV硬化型3Dプリンターで作製された硬化物内の反応率と収縮率の分布
- ロールツーロールUVナノインプリントプロセスにおけるUV硬化樹脂の反応率と離型性の関係
プログラム
UV硬化樹脂の硬化プロセスでは、硬化不良が出れば、照射強度を強くしたり、照射時間を長くしたりすることで、硬化が促進され、ほとんどの不良は解決されるのですが、わずか数秒間の硬化時間の中にもさまざまな理解すべき要素があります。
当講演では、FT-IR、DSC、フォトレオメータ、レーザー変位計を使用した硬化過程の測定法からはじめて、硬化過程のシミュレーションとその応用としてロールツーロールナノインプリントや3Dプリンターについて最近の研究を説明します。
今回は最後の30分にEXCELでのシミュレーションの実習も行います。できるだけわかりやすく説明しますのでどうぞよろしくお願いします。
- UV硬化過程の測定
- UV硬化樹脂型樹脂の分類
- ラジカル系
- カチオン系
- アニオン系
- ラジカル系測定法の分類
- real time FT-IRとは
- real time FT-IRの詳細
- FT-IRの干渉系
- 干渉系の安定性
- 試料光学系
- Lambert-Beer則
- 高い再現性を実現するための工夫
- KBrのUV吸収の補正
- ベースライン補正
- UV照射のタイミング
- UV照射前後のスペクトル増減
- 再現性の検討
- 照射時間と反応率の関係
- 照射強度と反応率の関係
- 開始剤と光源の波長の関係
- フォトレオメータとレーザー変位計
- レオメータの原理
- フォトレオメータの特徴
- 粘弾性理論
- 弾性率と架橋網目の関係
- 照射時間の影響
- レーザー変位計の原理
- 光源と開始剤の影響
- 照射時間と収縮率
- フォトDSC
- 測定方法の違い
- 測定中の温度変化
- フォトDSCで再現性良く実験するコツ
- UV強度の調節法
- 反応率の算出方法
- 反応温度と反応率の関係
- UV硬化過程の解析
- 暗反応解析の基礎
- 暗反応解析による重合停止反応速度定数のフィッティング
- 塊状重合における見かけの反応速度
- Anseth-Bowman,Goodner-Bowmanモデルの説明
- Anseth-Bowman,Goodner-Bowmanモデルを用いた重合速度定数のフィッティング
- 未反応末端の定量評価
- UV硬化過程のシミュレーション
- ラジカル系の反応機構
- 物質収支式
- モノマー中の溶存酸素濃度の決定法
- モノマー中の酸素の拡散係数の決定法
- その他のパラメータの決定法
- 照射時間と反応率の関係について実験と比較
- 重合と停止反応速度定数の実験との比較
- UV硬化過程のシミュレーションの模擬3Dプリンターへの応用
- 3Dプリンターの応用
- 3Dプリンターの分類
- 3D UVプリンターの詳細
- 3D UVプリンターの課題 (反応率と収縮率の分布)
- 模擬3D UVプリンターの説明
- 硬化物内のUV硬化樹脂の反応率分布
- 硬化物内の収縮率分布
- 反応率分布に与えるUV照射強度の影響
- ロールツーロールUVナノインプリントにおける硬化フィルムの物性
- ナノインプリントの応用
- ロールツーロール方式とバッチ式の比較
- UV硬化式と熱式
- UV硬化式の課題 (ナノ金型からの離型)
- UV硬化樹脂の不均一性と脆性
- ライン速度とUV硬化樹脂の反応率の関係
- UV強度とUV硬化樹脂の反応率の関係
- ライン速度とUV硬化樹脂フィルムの表面弾性率の関係
- UV強度とUV硬化樹脂フィルムの表面弾性率の関係
- 反応率と表面弾性率の関係
- UVの照度分布と表面弾性率の関係
- nm以下のナノロッドのナノインプリントの例
- 低照度系 (ジェルネイルなど) における硬化
- ジェルネイルなどのフォーミュレーション
- 工業プロセスとの違い
- モノマーとアレルギーの関係
- 衛生上の注意
- 硬化時の発熱
- 未硬化層の評価
- 残留 (未反応) モノマーの評価法
- 照射強度が未硬化層,残留モノマー,発熱に与える影響
- 照射時間が未硬化層,残留モノマー,発熱に与える影響
- 開始剤濃度が未硬化層,残留モノマー,発熱に与える影響
- 酸素阻害の影響を考慮したシミュレーションの実習
- プログラムの内容
- テストケースの実行
- 計算結果の見方
- 質疑応答
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
- 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
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