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全固体電池の高出力化と付与技術、性能評価

全固体電池の高出力化と付与技術、性能評価

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、全固体電池について、固体界面でのイオンや電子の流れを制御し、安定性の高い界面設計のポイントを詳解いたします。

開催日

  • 2017年3月13日(月) 10時00分 16時00分

修得知識

  • 薄膜型全固体電池の作製
  • 固体電解質と電極の間の界面におけるイオン伝導特性
  • 界面構造を定量的に評価する方法
  • 電解質/電極間の界面抵抗の発生起源を原子レベルのミクロな視点で理解
  • ナノファイバーの特性、合成、開発に関連した知識
  • ナノファイバーを使った新しいイオン輸送の最先端の情報
  • 全く新しい全固体二次電池用電解質の開発に関する考え方

プログラム

第1部 全固体リチウム電池の電解質/電極界面におけるイオン伝導特性

(2017年3月13日 10:00〜11:20)

 電解質/電極界面のイオン伝導特性は、電解質と電極の材料の組み合わせだけではなく、その界面の形成プロセスに強く依存する。
 高いイオン伝導特性を示す界面構造ならびに全固体リチウム電池の開発設計指針について解説する。

  1. 全固体リチウム電池の開発課題
    1. 固体電解質/電極の高い界面抵抗とその起源
    2. 界面抵抗低減の取り組み
  2. 薄膜型全固体電池の作製と評価
    1. 界面研究の方法論 (構造を規定した界面の利用)
    2. 薄膜作製手法 (パルスレーザー堆積法、スパッタ法)
    3. 電池材料のエピタキシャル薄膜
    4. 薄膜型電池の電池特性
    5. 交流インピーダンス測定による界面抵抗評価
  3. 固体電解質/電極界面の構造評価
    1. 透過電子顕微鏡を用いた構造評価
    2. 表面X線回折を用いた構造評価
    3. 界面抵抗の発生起源と全固体電池の開発設計指針
  4. 5V級正極を用いた全固体リチウム電池
    1. 低抵抗界面の実現と高速充放電
    2. 界面修飾・アニール効果
    3. 電解質/電極界面におけるリチウムイオンの拡散現象
    • 質疑応答

第2部 PVDF系材料の特性と全固体電池のバインダーへの応用

(2017年3月13日 11:20〜12:50)

  1. 全固体電池の種類とバインダー
    1. 固体電解質系リチウムイオン電池
    2. 金属空気電池
    3. 金属硫黄電池
  2. バインダー選定
    1. 固体電解質系リチウムイオン電池のバインダー
    2. 2金属空気電池のバインダー
    3. 金属硫黄電池のバインダー
    4. 金属系負極材料の可能性とバインダー
  3. 固体電解質のバインダー
    • 質疑応答

第3部 リチウムイオン伝導性ナノファイバーからなる全固体型二次電池用電解質の開発

(2017年3月13日 13:30〜14:50)

  1. ナノファイバーの特性、合成、開発
  2. イオン伝導性ナノファイバーの特性
  3. イオン伝導性ナノファイバーを用いた燃料電池用電解質膜の開発
  4. リチウム伝導性ナノファイバーを用いた全固体二次電池用電解質の開発
    • 質疑応答

第4部 硫化物ガラスの構造とイオン伝導の相関性

(2017年3月13日 15:00〜16:20)

 硫化物ガラス電解質について、放射光X線・中性子回折を用いた逆モンテカルロ法と第一原理計算を併用した解析により、3次元原子配列とイオン伝導の相関性を検討した研究について紹介する。

  1. 硫化物ガラスの回折実験を基にした構造解析
    1. 全散乱測定原理
    2. 大型放射光施設SPring-g8 BL04B2における測定
  2. 二体分布関数 (PDF) 解析による硫化物ガラス構造解析
    1. X線と中性子回折の相違
    2. 実空間解析の種類と配位数の評価
    3. 短・中距離秩序の評価、ナノスケール構造評価
  3. 逆モンテカルロ (RMC) 法による硫化物ガラスの3次元構造構築
    1. マルチプローブをベースにした構造モデル構築の有用性
    2. 角度分布、ボロノイ分布、硫化物四面体の頂点・稜共有解析
    3. RMCと第一原理計算を併用した構造モデル構築・電子状態解析
    • 質疑応答

講師

  • 白木 將 (白木 将)
    日本工業大学 基幹工学部 応用化学科
    教授
  • 鈴木 孝典
    株式会社スズキ・マテリアル・テクノロジー・アンド・コンサルティング
    代表取締役
  • 川上 浩良
    東京都立大学 都市環境科学研究科 環境応用化学域
    教授
  • 尾原 幸治
    公益財団法人 高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
    研究員

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

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