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濡れ性の基礎と撥水性や親水性を生かした新しい表面利用技術

濡れ性の基礎と撥水性や親水性を生かした新しい表面利用技術

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、「濡れ性制御の原理」の解説から「超撥水性や超親水性を生かしたアプリケーションの事例」まで分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2016年12月14日(水) 10時30分 16時00分

受講対象者

  • 超撥水の応用分野に関連する技術者
    • ディスプレイ
    • 電極材料
    • 太陽電池
    • 燃料電池
    • 衣料品・繊維
    • ガラス など
  • 超親水の応用分野に関連する技術者
    • ナノエレクトロニクス
    • 医療材料
    • プリント基板
    • LCD
    • 熱交換器
    • 燃料電池
    • 衣料品 など
  • 超親水・超撥水を製品開発に応用したい方
    • 防汚
    • 防雪
    • 防氷
    • 防曇
    • セルフクリーニング など

修得知識

  • 超撥水性表面・超親水性表面 (濡れ性制御技術) の基礎
  • 超撥水性表面及び超親水性表面の原理
  • 液体の滑落性に焦点を当てた濡れ性制御技術
  • それぞれの原理から考えられる超撥水性や超親水性を生かした新しい表面利用技術

プログラム

 濡れ性制御技術は、エレクトロニクス機器・屋内外建材・輸送機器・スポーツ用品等、身近な生活から産業生産の至る所で広く利用されている。しかしながら、受講者の方々がそれぞれ持っている諸課題を解決するには、単純に「ヤングの式等」の一般的な理論に沿わないことも多い。
 本講演では、それらの諸課題を解決する際に、「原理」と「表面の形成方法」の間に存在する解決課題にも踏み込み、理論と実際の間を橋渡しするような基礎的な知見も提供していきたい。
 故に、「濡れ性制御の原理」の解説から、液体の滑落性に焦点を当てた「表面形成プロセス」に触れた上で、原理から考えられる「超撥水性や超親水性を生かしたアプリケーションの事例」を紹介する。

  1. 表面濡れ性に関する基礎
    1. 撥水性と親水性の定義
    2. 接触角に関する基礎方程式
      • Young’s model
      • Wenzel’s model
      • Cassie’s model
    3. 基礎方程式からみた、超撥水性表面と超親水性表面の理解
    4. 液滴の転落角 (付着性) に関する基礎方程式
      • 付着エネルギー (Furmidgemodel・Contactanglehysteresis)
    5. 接触角・転落角の評価方法
    6. 固体表面エネルギーとZismanプロット
  2. 液体の滑落性に焦点を当てた濡れ性制御技術
    1. 動的撥水性評価の重要性
      • フッ素系の撥水剤とアルキル系の撥水剤の例
      • 必ずしも、接触角:高 ⇒ 転落速度:高 ではない。
    2. 液滴が傾斜表面上を転落する際の内部流動状態
    3. 液滴の接触角と液滴の転落速度の関係
      • では、接触角:高 ⇒ 転落速度:高 になる条件とは?
    4. 表面粗さの違いによる液滴の滑落性の違い
    5. 表面のパターン構造の違いによる液滴の転落性の違い
    6. 液体の滑落性を向上させる「表面形成プロセス」の工学的ポイント
  3. 高耐久性超撥水性の材料設計
    1. 超撥水性表面上での水滴の転落速度の基礎方程式
    2. 超撥水性表面を高耐久性化する際の課題
    3. 有機モノリス構造体を用いた高耐久性超撥水性表面の設計コンセプト
    4. 有機モノリス構造体を用いた高耐久性超撥水性表面の機能
  4. 各種濡れ性を有する表面の流体摩擦
    1. 超撥水性と超親水性における流体摩擦の低減効果
    2. 光誘起超親水性を用いたマイクロ流路内における攪拌効果の向上
      • マイクロ化学工学等のMEMSや冷却機構への応用
  5. 撥水性及び親水性の表面濡れ性を生かした新規利用方法の展開
    1. エレクトロウェッティングによる流体運動の制御
    2. 水の氷結や結露の抑制

会場

江東区産業会館

第2会議室

東京都 江東区 東陽4丁目5-18
江東区産業会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
    • 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
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