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有機-無機ハイブリッド材料の合成法、光学応用をはじめとした各種応用例

有機-無機ハイブリッド材料の合成法、光学応用をはじめとした各種応用例

~発光材料、撥水・撥油材料、ポリマーの低膨張率化への応用とその可能性~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、ゾルゲル法の基礎から解説し、成膜条件の最適化、ゾルゲル膜のクラックや気泡・剥離・欠陥などのトラブルの原因と対策、未然防止策について詳解いたします。

開催日

  • 2016年1月27日(水) 13時00分 16時30分

修得知識

  • ゾル-ゲル法、有機-無機ハイブリッド関連の基礎技術
  • 光学材料の考え方、各種材料応用

プログラム

 有機-無機ハイブリッド技術の基礎と各種応用について概説する。
 有機-無機ハイブリッド材料の基本的な考え方とそれらの合成手法、加えてポリシルセスキオキサンについて述べる。
 有機-無機ハイブリッド材料の最も重要な応用の一つである光学応用の考え方、屈折率・アッベ・温度依存性などの屈折率関連特性の制御技術、新しい発光材料として応用について述べる。また、新しいコンセプトによる撥水・撥油材などの表面処理材適用やポリマー素材の低熱膨張率化の可能性について述べる。

  1. 有機-無機ハイブリッド材料
    1. 有機-無機ハイブリッド材料とは
      1. ゾル-ゲルベースの溶液反応の適用
      2. 熱硬化・光硬化反応の適用
      3. 熱可塑性有機-無機ハイブリッド材料
    2. ポリシルセスキオキサン
      1. ポリシルセスキオキサンとは
      2. 基本的な有機ケイ素化合物の合成法
      3. ポリシルセスキオキサンを用いたハイブリッド形成
  2. 有機-無機ハイブリッド材料の光学応用
    1. 有機-無機ハイブリッド材料の光学材料応用の考え方
      1. 透明性維持のための必要条件
      2. ハイブリッド形成プロセスと出口設計
    2. ナノ粒子 (クラスター) 合成の考え方
      1. ゾル-ゲル法をベースとした粒子形成
      2. ビルドアッププロセスによる表面修飾ナノ粒子形成
      3. 表面修飾ナノ粒子の化学構造とその解析手法
    3. 屈折率制御
      1. 低屈折率材料
      2. 高屈折率材料
      3. 屈折率温度依存性制御の可能性
    4. 透明発光材料への応用
      1. 希土類ドープハイブリッド材料
      2. 可視光発光
      3. 白色発光の可能性
      4. 光増幅の可能性
      5. 近赤外発光
      6. 希土類含有ナノクラスター含有SiO2の新規光学材料への展開
  3. 有機-無機ハイブリッド材料の表面処理材への応用
    1. 撥水・撥油材料への適用
      1. フッ素基導入による撥水材料
      2. フッ素・長鎖アルキルを含まない撥水・疎水材料
    2. ハードコート材料への応用
  4. 有機-無機ハイブリッド化による有機ポリマーの低熱膨張率化の可能性
    • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 福井 俊巳
    株式会社KRI 構造材料研究部
    取締役執行役員, 部長

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 第2特別講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 20,000円(税別) / 21,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,040円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 43,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 64,800円(税込)
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