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ゾル-ゲル法による膜作成メカニズム、高機能化、新しい応用

ゾル-ゲル法による膜作成メカニズム、高機能化、新しい応用

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、ゾルゲル法の基礎から解説し、成膜条件の最適化、ゾルゲル膜のクラックや気泡・剥離・欠陥などのトラブルの原因と対策、未然防止策について詳解いたします。

開催日

  • 2016年1月19日(火) 11時00分 16時30分

プログラム

第1部 ゾル – ゲルコーティングの作成と応用

(2016年1月19日 11:00〜12:30)

 ゾル – ゲル法による薄膜形成技術について概説する。薄膜作成にかかわる基礎項目について説明する。ゾル – ゲル薄膜の光学薄膜、誘電体膜、光触媒、透明導電膜、UVカット膜などへ応用例について述べる。

  1. ゾル – ゲル法による薄膜形成
    1. ゾル – ゲル法の基礎知識
      1. ゾルーゲル法の基本的な工程
      2. ゾルーゲル法の適用範囲
      3. 出発原料と加水分解・重合反応
    2. ゾルーゲル液を用いた成膜手法
      1. スピンコート
      2. ディップコート
      3. ロールコート
      4. バーコート
      5. スプレーコート
    3. 有機 – 無機ハイブリッド膜
      1. 有機 – 無機ハイブリッドとは
      2. ゾル – ゲルベース溶液反応の適用
      3. 熱硬化・光硬化反応の適用
  2. ゾル – ゲル法を用いた機能性薄膜への応用
    1. 光学薄膜の形成
      1. 光学材料応用の基礎
      2. 屈折率制御薄膜
      3. フッ素均質導入膜による高硬度低屈折率膜
    2. 誘電体膜の形成
    3. 光触媒膜の形成
      1. 塗布法によるチタニア膜の形成
      2. 結晶性アナターゼ膜の低温形成
    4. 透明導電膜の形成
      1. 塗布法によるITO膜の形成
      2. ゾルーゲル法によるITO膜の低温形成の可能性
      3. 光アシストゾルーゲル法によるITO膜の室温形成
    5. 紫外線カット膜の形成
      1. UV遮蔽に適用可能な素材
      2. 酸化チタン系膜
      3. 酸化セリア系膜
    • 質疑応答

第2部 ゾル – ゲル法による有機 – 無機 ポリマーハイブリッドの合成指針と最近の応用例

(2016年1月19日 13:15〜14:45)

 ハイブリッド材料を得るには一般的にゾル – ゲル法が用いられるが、元々混ざりにくいものを均一に分散させるためには工夫が必要である。講演では、これらの一般的なハイブリッド作成と解析手法を説明する。また、最近の高機能ハイブリッド材料についても紹介する。

  1. これまでの研究例
    • 歴史
    • 最近の応用例
  2. 材料設計指針
    • 相分離を起こさない官能基選択
  3. 合成法
    • ゾル – ゲル法
    • 電子レンジによる作成時間短縮
  4. 同定法
    • 分光スペクトルの解析法
    • 電子顕微鏡
  5. 応用例
    1. 汎用性高分子の耐熱性向上
      • 合成例
      • 物性
      • 機能材料としての応用例
      • 共役系高分子のハイブリッド化
      • 色素含有ハイブリッド材料
      • 刺激応答性ハイブリッド材料
      • フォトパターニング
      • マイクロ波感応熱源としての応用
    • 質疑応答

第3部 ゾルゲル法によるセラミックス薄膜 およびナノ材料の作製と評価

(2016年1月19日 14:00〜15:15)

 ゾルゲル法による薄膜作製に用いるコーティング溶液の調製法,その溶液から作製した薄膜の微構造の特徴,その薄膜の応用例について説明する。また,その溶液を用いた様々なナノ材料の作製やその応用についても説明する。

  1. ゾルゲル法の簡単な説明
  2. アルカノールアミン法について
    1. 金属成分が安定に溶解した 原料溶液の調製法
    2. 溶液中での金属成分の構造
    3. 作製したセラミックス薄膜の特性
  3. 水溶液を原料としたゾルゲル法について
    1. 水溶性金属錯体について
    2. 水系コロイド溶液の調製法
    3. 水系コロイドから作製した薄膜の特性
  4. 水系コロイドを用いたナノ材料の作製と評価について
    1. ゼオライト薄膜
    2. 金属酸ナノシート
    3. 金属酸化物ナノ粒子
    4. 超親水性・超親油性薄膜
    • 質疑応答

講師

  • 福井 俊巳
    株式会社KRI 構造材料研究部
    取締役執行役員, 部長
  • 田中 一生
    京都大学 大学院 工学研究科 高分子化学専攻
    教授
  • 伴 隆幸
    岐阜大学 工学部 化学・生命工学科
    教授

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

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受講料

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: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 50,000円(税別) / 54,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 59,400円(税込)
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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 162,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
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