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超臨界流体の基礎とCO2中での酵素反応による有機合成
超臨界流体の基礎とCO2中での酵素反応による有機合成
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
概要
本セミナーでは、超臨界二酸化炭素利用の基礎から酵素反応を用いた有機合成について詳解いたします。
開催日
- 2013年3月27日(水) 12時30分 ～ 16時30分
修得知識
- 超臨界二酸化炭素の利用技術
- 酵素を用いる有機合成技術
プログラム
環境調和型であり高機能性溶媒である超臨界二酸化炭素について、興味をお持ちの方へ、基礎的な性質および利用方法についてやさしく説明します。
また、応用例として、超臨界二酸化炭素を利用する酵素反応に関する専門的な最新の展開について講演します。
- 超臨界流体の基礎
- 超臨界流体とは何か
- 超臨界二酸化炭素とは何か
- 超臨界二酸化炭素の利用の工業的な例
- 超臨界二酸化炭素の実験装置
- 超臨界二酸化炭素を用いる応用研究 ～超臨界流体中での酵素反応
- 酵素の安定性
- 加水分解酵素による光学活性体の合成
～実質的に無溶媒での光学活性体の合成 - アルコール脱水素酵素による不斉還元反応
- 脱炭酸酵素の逆反応を利用するカルボキシル化反応
～二酸化炭素を原料とする反応の開発 - 今後の展開
- まとめ
- 質疑応答・名刺交換
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
- 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。
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