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有機無機ハイブリッド材料の合成、開発と応用展開

有機無機ハイブリッド材料の合成、開発と応用展開

東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2012年12月21日(金) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • 有機無機ハイブリット材料に関連する技術者、品質担当者、管理者

修得知識

  • 有機無機ハイブリッドの基礎
  • 有機無機ハイブリッドの適用法

プログラム

 有機無機ハイブリッドは、有機ポリマーと無機ナノ材料の特性を活かした新しい機能性材料として注目されている。
 ゾルゲル法による金族酸化物やナノ粒子を有機ポリマーと相互作用させることでハイブリッド材料を合成できる。本講演では、有機無機ハイブリッドの合成手法と光学材料中心とした応用について、概説する。

  1. 有機無機ハイブリッドの基礎
    1. 有機無機ハイブリッドとは
    2. 有機無機ハイブリッドの分子構造と合成方法
      1. ゾルゲル反応
      2. ハイブリッド化のための分子間相互作用
      3. ナノ粒子の利用
      4. シルセスキオキサンの利用
    3. 有機無機ハイブリッドの期待される機能
  2. 光機能性ポリシラン-無機ハイブリッド
    1. ポリシラン-シリカハイブリッド
      1. ポリシラン共重合体の合成とシリカハイブリッドへの適用
      2. ポリシラン-シリカハイブリッド薄膜の光機能性-屈折率制御
    2. ポリシラン共重合体-金属ナノ粒子ハイブリッド
      1. 触媒薄膜の適用
    3. ポリシラン-シリカナノ粒子ハイブリッド
      1. 低屈折率薄膜の調製と反射防止膜への応用
  3. 光ゾルゲル反応による有機無機ハイブリッド
    1. 光ラジカル重合-ゾルゲル2元架橋反応によるハイブリッドの調製
    2. 光カチオン重合-ゾルゲル2元架橋反応によるハイブリッドの調製
    3. エンチール反応-ゾルゲル2元架橋反応によるハイブリッドの調製
    4. ハードコーティングへの応用
  4. シルセスキオキサンによる有機無機ハイブリッド
    1. シルセスキオキサンを用いたフルオレン系高屈折率薄膜の作製
    2. チオール含有シルセスキオキサンを用いた高屈折率薄膜の作製
    3. 金属ナノ粒子を含んだシルセスキオキサンの作製と応用
  5. パラジウムナノ粒子を含有した有機無機ハイブリッド触媒薄膜
    1. ラジカル還元・光重合によるパラジウムナノ粒子含有アクリレートハイブリッド
    2. ラジカル還元・熱重合によるパラジウムナノ粒子含有アクリレートハイブリッド
    3. 無電解銅めっき触媒薄膜への適用
  6. 金属酸化物ナノ粒子分散体の調製と有機無機ハイブリッドへの適用
    1. ジルコニアナノ粒子分散体の調製
      1. 2段階法によるナノ分散体の調製
      2. デュアルシランカップリング剤によるナノ分散体の調製
    2. チタニアナノ粒子分散体の調製
    3. 高屈折率有機無機ハイブリッドコーティングの作製
  7. 総括

  • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 松川 公洋
    京都工芸繊維大学 新素材イノベーションラボ
    特任教授

会場

東京流通センター

2F 第3会議室

東京都 大田区 平和島6-1-1
東京流通センターの地図

主催

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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

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