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米国特許法改正の要点と改正をふまえた特許戦略・実務

米国特許法改正の要点と改正をふまえた特許戦略・実務

~化学・材料・環境系メーカー担当者が押さえておくべき実務対応~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、改正した米国特許法について基礎から解説し、日本の化学・環境技術系メーカーの特許・知財実務担当者が押さえておくべき点を解説いたします。

開催日

  • 2012年2月28日(火) 13時00分16時30分

受講対象者

  • 企業・大学・研究所の知的財産担当者
  • 企業の研究開発担当者
  • 大学・研究所の研究開発コーディネーター
  • 経営者

修得知識

  • 改正 米国特許法の基礎
  • 「先発明者出願主義」 ・ 「米国特有の先願主義」 とはなにか
  • 特許・知財実務担当者が押さえておくべきポイント

プログラム

 米国特許法がついに改正され、いわゆる「先発明主義」が「先願主義」に移行したといわれている。
 米国が憲法違反のリスクを冒してまでも法改正に踏み切ったのはなぜか。
 その背景をひも解くとともに、今回の改正で「先願主義 (First-to-File) 」ではなく「先発明者出願主義 (First Inventor to File) 」と呼ばれる理由はなぜなのか。
 本講座では、米国以外の「先願主義」とは異なる側面にも焦点を当てながら、日本の化学系メーカーの知財実務担当者として気をつけるべき点を、2011年改正をふまえ、大きく変更された出願実務を中心に現在の米国実務を見ながら考えたい。

  1. 化学系の知財実務
    1. ビジネス環境整備の一環としての知財戦略
    2. ビジネス環境整備の一環としての知財のLCM
  2. 化学系の知財実務 ~ グローバル戦略の中の米国実務
    1. ラボノートの重要性 ~実験系学問の必然
      • 発明日の立証
      • 発明者の特定等
    2. 出願日・発明日・優先権主張
    3. グレースピリオド、新規性・非自明性の考え方の基本
    4. 特異な出願制度
      • 仮出願
      • 継続出願
      • 継続審査
      • CIP
    5. クレーム戦略~限定要求
    6. 明細書の記載要件
      • 実施可能要件
      • Written Description
      • Best Mode
    7. 情報提示義務 (IDS) と衡平法
    8. 訴訟~虚偽表示 (False Marking) 訴訟等
  3. グローバルな知財実務
    1. 日本の実務
    2. 相違点・一致点
    3. 米国実務の特異点を考慮した日常実務
    4. 年米国特許改正法
    5. 「先願主義」か?
    6. 有効出願日 (Effective Filing Date) ~優先権
    7. グレースピリオド (先発表者保護主義)
    8. 異議申立 (Review) 等攻撃手段
    9. Best Modeの取り扱い~無効理由と衡平法
    10. Interference (先発明者決定手続) からDerivation (真の発明者決定手続) へ
    11. 国内公用から世界公知・公用
    12. 先使用権の拡大
    13. 人体除外要件
    14. 虚偽表示訴訟の終焉
  4. 判例の動向
    • 質疑応答

講師

  • 馰谷 剛志 (駒谷 剛志)
    山本秀策特許事務所 特許部門 (化学・バイオ・医薬)
    リーダー / 弁理士 (侵害訴訟代理付記)

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん
東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 47,250円 (税込)
複数名
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
本セミナーは終了いたしました。

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