特許情報分析 (パテントマップ) から見た

半導体技術10社技術開発実態分析調査報告書

～業界別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、半導体技術10社に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。

ご案内

1. 調査目的

半導体技術10社の公開件数、発明者、および特許分類などに対し、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
①どのような技術の公開があるか、
②技術開発動向はどのように推移しているか、
③最近注目する技術は何なのか、
④共同出願人間の連携状況はどのようになっているか、
等を明確にして、「半導体技術10社」の知財の現状につき具体的なデータを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

半導体技術10社

東芝
ソニー
ルネサスエレクトロニクス
NECエレクトロニクス
日立製作所
三菱電機
富士通セミコンダクター
インフィニオンテクノロジーズG
テキサス・インスツルメンツG
インテル

2. 特許情報の収集と処理

本調査報告書は、「半導体技術10社」の過去10年間 (国内公開日:2000年～2009年) に及ぶ公開特許について、「特許検索ASPサービスSRPARTNER」 ( (株) 日立情報システムズ製) を使用し、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」 (インパテック(株)製) を使用した。特許情報公報の総数は48,261件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

Ⅰ.パテントマップ編
- A.技術開発成果 (公開件数の推移)
- B.技術開発リソース (発明者の状況)
- C.技術開発分野 (特許分類、キーワードの分析)
- D.半導体技術10社比較分析
- E.半導体技術10社個別分析
- F. 特定2社の比較分析 (東芝とソニー)
Ⅱ.パテントチャート編
Ⅲ.総括コメント

4. 本報告書の特徴

「半導体技術10社」の技術動向が分かりやすく把握できる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい
パテントマップ Viewer (添付ソフトウェア) により、パテントマップおよびパテントチャートの当該部分に含まれる特許の詳細内容を調べることができる

パテントマップ実例、本文中の実際のページ例

A. 技術開発成果 (公開件数の推移)
- A-1. 公開件数の推移 (年次と累計)
- A-2. 出願人別公開件数ランキング (上位50)
B. 技術開発リソース (発明者の状況)
- B-1. 発明者数の推移 (年次と累計)
- B-2. 新規発明者数の推移 (年次と累計)
- B-3. 発明者別公開件数ランキング (上位50)
C. 技術開発分野 (特許分類、キーワードの分析)
- C-1. 分類数の推移
  - C-1-1. 新規FIメイングループ分類数の推移 (年次と累計)
  - C-1-2. 新規FIサブグループ分類数の推移 (年次と累計)
  - C-1-3. 新規FI分類数の推移 (年次と累計)
  - C-1-4. 新規Fタームテーマコード分類数の推移 (年次と累計)
  - C-1-5. 新規Fターム分類数の推移 (年次と累計)
- C-2. 分類別公開件数
  - C-2-1. FIメイングループ分類別公開件数ランキング (上位50)
  - C-2-2. FIサブグループ分類別公開件数ランキング (上位50)
  - C-2-3. FI分類別公開件数ランキング (上位50)
  - C-2-4. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング (上位50)
  - C-2-5. Fターム分類別公開件数ランキング (上位50)
  - C-2-6. FIメイングループ分類別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-2-7. FIサブグループ分類別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-2-8. FI分類別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-2-9. Fタームテーマコード分類別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-2-10. Fターム分類別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-2-11. FIメイングループ分類別公開件数の推移 (上位40、累計)
  - C-2-12. FIサブグループ分類別公開件数の推移 (上位40、累計)
  - C-2-13. FI分類別公開件数の推移 (上位40、累計)
  - C-2-14. Fタームテーマコード分類別公開件数の推移 (上位40、累計)
  - C-2-15. Fターム分類別公開件数の推移 (上位40、累計)
- C-3. 分類別展開
  - C-3-1. FIメイングループ分類別出現・消失状況 (上位40)
  - C-3-2. FIメイングループ分類別出現・消失状況 (最近出現40)
  - C-3-3. FIサブグループ分類別出現・消失状況 (上位40)
  - C-3-4. FIサブグループ分類別出現・消失状況 (最近出現40)
  - C-3-5. FI分類別出現・消失状況 (上位40)
  - C-3-6. FI分類別出現・消失状況 (最近出現40)
  - C-3-7. Fタームテーマコード分類別出現・消失状況 (上位40)
  - C-3-8. Fタームテーマコード分類別出現・消失状況 (最近出現40)
  - C-3-9. Fターム分類別出現・消失状況 (上位40)
  - C-3-10. Fターム分類別出現・消失状況 (最近出現40)
  - C-3-11. FIメイングループ分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
  - C-3-12. FIサブグループ分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
  - C-3-13. FI分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
  - C-3-14. Fタームテーマコード分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20) )
  - C-3-15. Fターム分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
- C-4. キーワード分析
  - C-4-1. キーワード別公開件数ランキング (上位100)
  - C-4-2. キーワード別公開件数の伸長率 (上位50)
  - C-4-3. キーワード別出現・消失状況 (上位80)
  - C-4-4. キーワード別出現・消失状況 (最近出現80)
D. 半導体技術10社比較分析
- D-1. 公開件数比較 (期間着目:2期間+全体)
- D-2. 公開件数の推移 (累計)
- D-3. 新規FIメイングループ分類数の推移 (累計)
- D-4. 新規FIサブグループ分類数の推移 (累計)
- D-5. 新規FI分類数の推移 (累計)
- D-6. 新規Fタームテーマコード分類数の推移 (累計)
- D-7. 新規Fターム分類数の推移 (累計)
- D-8. 新規発明者数の推移 (累計)
- D-9. 共同出願人数の推移 (累計)
- D-10. 半導体技術10社間の公開件数相関
- D-11. 共同出願人上位20社との公開件数相関
- D-12. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- D-13. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- D-14. 上位20FI分類との公開件数相関
- D-15. 上位20Fタームテーマコード分類との公開件数相関
- D-16. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- D-17. 公開件数占有率
- D-18. 公開件数の伸びと構成率
E. 半導体技術10社個別分析
- E-1-*. FIサブグループ分類別公開件数ランキング (上位50)
- E-2-*. Fターム分類別公開件数ランキング (上位50)
- E-3-*. FIサブグループ分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
- E-4-*. Fターム分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
- E-5-*. FIサブグループ分類別出現・消失状況 (最近出現40)
- E-6-*. Fターム分類別出現・消失状況 (最近出現40)
- E-7-*. FIサブグループ分類別公開件数伸長率 (上位50)
- E-8-*. Fターム分類別公開件数伸長率 (上位50)
- E-9-*. FIサブグループ分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
- E-10-*. Fターム分類別公開件数の伸びと構成率 (上位20)
- E-11-*. キーワード別公開件数ランキング (上位50)
- E-12-*. 独自キーワード別公開件数ランキング (上位50)
- E-13-*. 共同出願人との連携 (上位50)
  注 : * は半導体技術10社が相当。
F. 特定2社の比較分析 (東芝とソニー)
- F-1. FIメイングループ分類別公開件数推移比較 (上位20)
- F-2. FIサブグループ分類別公開件数推移比較 (上位20)
- F-3. FI分類別公開件数推移比較 (上位20)
- F-4. Fタームテーマコード分類別公開件数推移比較 (上位20)
- F-5. FIメイングループ分類別公開件数の伸長率比較 (上位20)
- F-6. FIサブグループ分類別公開件数の伸長率比較 (上位20)
- F-7. FI分類別公開件数の伸長率比較 (上位20)
- F-8. Fタームテーマコード分類別公開件数の伸長率比較 (上位20)

Ⅱ. パテントチャート編

1. 共同出願人国際超電導産業技術研究センターの時系列チャート分析
2. 共同出願人京都大学の時系列チャート分析
3. 共同出願人国際超電導産業技術研究センターのマトリクスチャート分析
4. 共同出願人京都大学のマトリクスチャート分析

Ⅲ. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人グループ化リスト
資料2 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方
資料3 : パテントマップ Viewer (添付ソフト) の使い方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

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体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア添付) 269ページ

ISBNコード

ISBN978-4-904967-13-3

発行年月

2010年6月

販売元

tech-seminar.jp

価格

68,727円 (税別) / 75,600円 (税込)

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開始日時		会場	開催方法
2025/3/7	知財実務者のためのAI活用セミナー:生成AIで実現する業務効率化とデータ解析		オンライン
2025/3/10	半導体後工程プロセスと加工用材料の開発		オンライン
2025/3/10	医薬品の知的財産制度をふまえた特許戦略構築と知財デュー・デリジェンス/知財価値評価のポイント		オンライン
2025/3/11	チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向		オンライン
2025/3/12	シリコン・パワー半導体におけるCMPの技術動向		オンライン
2025/3/13	パテントマップの作成と開発・知財・事業戦略の策定と実践方法		オンライン
2025/3/13	知財戦略の立て方と効果の確認およびその判断基準		オンライン
2025/3/13	次世代自動車・データセンタ用サーバ電源高性能化に対応するSiC/GaNパワーデバイスの技術動向と課題		オンライン
2025/3/13	半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド		オンライン
2025/3/14	半導体デバイス製造に用いられる接合技術の基礎と異種材料集積化に向けた常温・低温接合技術の最新動向		オンライン
2025/3/14	量子ドットの基礎物性、作製・構造測定技術とデバイス応用		オンライン
2025/3/17	特許情報分析の基本と実践ノウハウ		オンライン
2025/3/24	半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで	東京都	会場・オンライン
2025/3/24	医薬品開発における医薬用途の特許戦略		オンライン
2025/3/26	記載要件に基づいて特許を読み込めますか? 書けますか?		オンライン
2025/3/28	パテントマップの作成と開発・知財・事業戦略の策定と実践方法		オンライン
2025/4/3	医薬品開発における医薬用途の特許戦略		オンライン
2025/4/24	知財業務における生成AIの賢い使い方		オンライン
2025/4/28	特許情報からみたメタマテリアル/メタサーフェスが促す光/電子デバイス材料設計の新潮流 2024		オンライン
2025/5/29	IPランドスケープによる戦略的な知財分析・活用のすすめ方		オンライン

発行年月
2011/5/15	日立グループ11社技術開発実態分析調査報告書
2011/4/25	2011年版フレキシブル電子デバイス技術開発実態分析調査報告書
2011/4/20	印刷機技術開発実態分析調査報告書
2011/4/15	大手合成繊維7社技術開発実態分析調査報告書
2011/4/10	日本電気 (NEC) 技術開発実態分析調査報告書
2011/3/25	バイオ燃料技術開発実態分析調査報告書
2011/3/20	有機EL (2011年版) 技術開発実態分析調査報告書
2011/3/20	自動車部品17社技術開発実態分析調査報告書
2011/3/10	花王 (2011年版) 技術開発実態分析調査報告書
2011/3/1	バッテリー関連技術技術開発実態分析調査報告書
2011/2/10	トヨタグループ9社技術開発実態分析調査報告書
2011/2/10	タイヤ4社技術開発実態分析調査報告書
2011/1/20	コンタクトレンズ技術開発実態分析調査報告書
2011/1/5	ブリヂストン技術開発実態分析調査報告書
2010/12/10	総合化学7社技術開発実態分析調査報告書
2010/11/15	防犯・監視カメラ技術開発実態分析調査報告書
2010/11/10	燃料電池 (中国特許版) 技術開発実態分析調査報告書
2010/11/1	印刷業界6社技術開発実態分析調査報告書
2010/9/20	TDK 技術開発実態分析調査報告書
2010/9/10	エンジニアリング大手10社技術開発実態分析調査報告書

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