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ゾル-ゲル法の基礎と材料調製、機能性材料設計・開発への応用

ゾル-ゲル法の基礎と材料調製、機能性材料設計・開発への応用

~反応メカニズム、液の調製 、コーティング材料~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、ゾル-ゲル法の反応メカニズムと有機-無機ハイブリッド材料について、基礎的な理論から、実務に役立つ材料合成法、膜の割れ・剥離対策まで体系的に学べます。

配信期間

  • 2026年12月21日(月) 13時00分 ~ 2027年1月7日(木) 16時30分

お申し込みの締切日

  • 2026年12月21日(月) 13時00分

受講対象者

  • ゾルゲル法の応用分野の技術者、開発者、研究者
    • 光学・電子ディスプレイ分野
      • 反射防止膜 (ARコート) や親水性・防曇コートの形成
      • タッチパネルや液晶ディスプレイの透明導電膜 (ITO) 代替材料
      • 光ファイバーやレンズ、波長フィルタの作製
    • 半導体・電子部品分野
      • 強誘電体薄膜 (メモリ材料やセンサ用PZTなど) の低温合成
      • 絶縁膜、誘電体層、パッシベーション膜の形成
    • 自動車・エネルギー分野
      • ガラスの着色コートや断熱・遮熱コーティング
      • 固体酸化物形燃料電池 (SOFC) の電解質・電極材料
      • リチウムイオン電池の電極マテリアルや固体電解質
    • 化学・バイオ・医療分野
      • 多孔質シリカなどの触媒担体や吸着剤の製造
      • ドラッグデリバリーシステム (DDS) 用のカプセル材料
      • バイオセンサや生体親和性コーティング (人工骨コートなど)
  • ゾルゲル法で課題を抱えている方

修得知識

  • ゾル-ゲル法の歴史的背景 (過去の知見理解のベース情報)
  • ゾル-ゲル法の基礎技術 (反応設計、前駆体設計・作成)
  • ゾル-ゲル法における構造制御の考え方
  • ゾル-ゲル法の応用や実用化の可能性 (実用化の課題などの理解)

プログラム

 ゾル-ゲル法の基礎について各工程や前駆体を意識した反応の変え方について概説する。ゾル-ゲル法の特徴である各種形態形成を幾つかの例示により説明する。特に薄膜作製については、成膜方法、コーティング溶液の調製法, その溶液から作製した薄膜の微構造の特徴などについても述べる。
 ゾル-ゲル法の応用として、薄膜への応用例について説明する。また、発光材料やシリカエアロゲルの応用技術についても触れる。なお、ゾル-ゲル法の歴史的流れについても触れることで、今後の応用の可能性を理解する一助としたい。

  • はじめに ゾル-ゲルの歴史
    • 無機化学としてのゾル-ゲルの歴史
    • シリコーン化学の歴史
    • ポリシルセスキオキサンの歴史
  1. ゾル-ゲルの基礎
    1. ゾル-ゲルの基礎知識
      1. ゾル-ゲル法の基本的な工程
      2. ゾル-ゲル法の適用範囲
      3. 出発原料と加水分解・重合反応
      4. 乾燥と加熱処理
      5. 光照射による結晶化
    2. 反応メカニズムと加水分解・重合制御
      1. ゾル-ゲル反応制御の考え方
      2. ゾル-ゲル過程、合成ゾルの評価方法
  2. ゾル-ゲル法による形態制御
    1. ゾル-ゲル法による粒子形成
    2. ゾル-ゲル法の膜形成方法
    3. ゾル-ゲル法による膜構造制御
      1. 前駆体構造の微細構造に与える影響
      2. 有機無機ハイブリッド技術の応用による微細孔導入と結晶化挙動に与える影響
      3. フッ素導入前駆体を用いた固液相分離による微細構造制御
      4. ポリマー相分離によるマクロ構造制御
    4. ゾル-ゲルによるバルク形成
      1. ゲル形成の問題点
      2. 乾燥収縮時の応力緩和
    5. ゾル-ゲルによる繊維形成
  3. ゾル-ゲル法の機能性薄膜形成への応用
    1. 光学薄膜の形成
      1. 光学薄膜形成のための基本事項
      2. 低屈折率膜
      3. 高屈折率膜
    2. 誘電体膜の形成
    3. 光触媒膜の形成
      1. 塗布法によるチタニア膜の形成
      2. 結晶性アナターゼ膜の低温形成
    4. フッ素フリー撥水撥油・滑落性膜の形成
      1. ハイブリッド系
      2. シロキサン系
    5. 透明導電膜の形成
      1. 各種出発原料を用いたITO膜形成
      2. ITO膜の結晶化温度、抵抗値に与える影響
  4. ハイブリッド透明発光材料への応用
    1. 希土類イオンの均質分散
    2. 希土類イオン含有ナノクラスターのRGB発光
    3. 希土類イオン含有透明発光材料
  5. シリカエアロゲルの応用技術
    1. 断熱素材への展開
    2. 軽量遮音材への応用
    • 参考書籍、参考雑誌
    • 質疑応答

講師

  • 福井 俊巳 氏
    株式会社KRI 構造材料研究部
    取締役執行役員, 部長

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 34,400円 (税別) / 37,840円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 34,400円(税別) / 37,840円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

  • 「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
  • 視聴期間は2026年12月21日〜2027年1月7日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

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