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「PFAS規制の動向と半導体業界への影響、対応状況、今後の方向性」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/4/3 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/4/3 PFAS規制強化の動きおよび回収・除去技術などの対策技術 オンライン
2026/4/10 電子機器におけるさまざまな放熱方法とその効果 オンライン
2026/4/10 チップレット集積・インターポーザの要素技術と最新開発動向 オンライン
2026/4/10 先端半導体プロセス・チップレットにおける注目技術と特許動向および知財戦略の要点 オンライン
2026/4/13 電子機器におけるさまざまな放熱方法とその効果 オンライン
2026/4/13 先端半導体パッケージ基板の最新技術と絶縁材料の開発 オンライン
2026/4/14 半導体デバイス製造工程の基礎 オンライン
2026/4/14 半導体・電子部品実装現場での静電気 (ESD) 対策 オンライン
2026/4/15 半導体製造用薬液の不純物対策 オンライン
2026/4/15 医療機器開発におけるソフトウェア規格の要点/サイバーセキュリティのリスク分析による設計文書への反映方法 (2日間) オンライン
2026/4/15 医療機器開発におけるソフトウェア規格要点と要求仕様書作成演習 オンライン
2026/4/15 海外 (EU、米国・カナダ、アジア・豪州) の難燃剤規制 (ハロゲン系・リン系) の最新動向・地域別状況 オンライン
2026/4/15 半導体・電子部品実装現場での静電気 (ESD) 対策 オンライン
2026/4/15 フィジカルAIが生み出す半導体・ロボットを中心とした周辺市場と技術トレンド オンライン
2026/4/15 アンモニア・水素混焼に対応するNOx低減と脱硝技術の最前線 オンライン
2026/4/16 医療機器開発におけるサイバーセキュリティのリスク分析による設計文書への反映方法 オンライン
2026/4/16 アンモニア・水素混焼に対応するNOx低減と脱硝技術の最前線 オンライン
2026/4/17 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー 東京都 会場・オンライン
2026/4/17 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
2026/4/17 主要国の製品含有化学物質法規制の詳細と具体的対応手法 オンライン
2026/4/17 AIデータセンターへ向けたパワー半導体の開発動向と実装技術、課題 オンライン
2026/4/17 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 オンライン
2026/4/17 水中に存在するPFAS (有機フッ素化合物) の分離回収技術動向と今後の展望 オンライン
2026/4/20 主要国の製品含有化学物質法規制の詳細と具体的対応手法 オンライン
2026/4/20 実験・分析における超純水・ブランク水の製造と管理 オンライン
2026/4/20 HfO2系強誘電体の基礎と半導体デバイス応用 オンライン
2026/4/21 半導体産業構造とサプライチェーン変化を学ぶ (2講座セット) オンライン
2026/4/21 産業排水処理技術の基礎と最新動向 オンライン
2026/4/21 半導体の技術進化と産業構造変化および今後の展望 オンライン
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