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中空粒子の合成、構造の制御と応用技術
中空粒子の合成、構造の制御と応用技術
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
開催日
- 2012年10月22日(月) 10時45分 ～ 16時30分
修得知識
- 中空粒子の合成法や構造制御法
- 中空粒子を応用する為に必要な分散技術
プログラム
中空粒子は内部に空間をもつことで、中実粒子とは異なる特性を発現することがある。例えば、低密度や高比表面積といった基本的な物性から、高抵抗、低誘電率といった電気的性質さらには光学的にもユニークな性質がある。本講演では中空粒子の合成方法や構造制御法について述べる。また、中空粒子を用いた応用技術についても概説する。
- 中空粒子概論
- 中空粒子の利点
- 中空粒子の合成法概論
- ナノ粒子合成法と構造制御
- 酵素プロセスによる中空粒子合成
- シ-ド粒子による中空粒子合成
- バブルテンプレーティング法による中空粒子合成
- 表面機能化ナノ粒子の合成
- 関連研究の紹介
- 中空粒子の応用
- 分散方法
- 表面改質
- 応用例 (超断熱フィルム、ロンドン五輪バレーボール)
- 関連技術の紹介
- 質疑応用・名刺交換
講師
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
45,000円 (税別) / 47,250円 (税込)
複数名
:
38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名同時受講の割引特典について
- 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
- 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
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