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半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

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視聴期間は2024年12月12日〜20日を予定しております。
お申し込みは2024年12月18日まで承ります。

概要

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

配信期間

  • 2024年12月18日(水) 10時30分 ～ 2024年12月20日(金) 16時30分

お申し込みの締切日

  • 2024年12月18日(水) 10時30分

受講対象者

  • レジスト材料・プロセスの研究や開発に関わる方
  • 半導体、ディスプレイ、MEMSなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方
  • レジストメーカー、およびレジストメーカーに原料を提供する素材メーカーの方

修得知識

  • レジストを製造するための基礎知識、材料設計指針
  • レジストを使用する際の留意事項
  • リソグラフィープロセスについて
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしてのデバイスメーカー対応能力
  • レジスト材料
    • ノボラック系ポジ型レジスト
    • 化学増幅型レジスト
  • プロセスについて

プログラム

　半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製 (レジスト塗布、露光、現像) 、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。
　本講演では、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセスについて解説するとともに、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説する。
　また、元デバイスメーカーにいた者の視線で、レジストメーカーに原料を提供する素材メーカーにおけるレジスト評価法の具体的な手法について丁寧に解説したい。

  1. 感光性レジストの基礎とリソグラフィー工程の解説
    1. 感光性レジストとは?
    2. リソグラフィーについて
    3. フォトレジストの塗布、露光、露光後ベーク (PEB) 、現像工程の概要
  2. レジスト設計の変遷とその作用メカニズム
    1. 半導体・電子デバイスの進化とレジスト設計の変遷
    2. レジストの基本原理
    3. レジストの現像特性
    4. レジストとSi基板との密着性について
  3. ノボラック系ポジ型レジストの材料設計
    1. レジスト現像アナライザ (RDA) を用いた現像特性評価
    2. ノボラック系ポジ型レジストの分子量とレジスト特性の関係
    3. ノボラック系ポジ型レジストのプリベーク温度を変えたレジスト特性評価
    4. PACのエステル化率を変化させたノボラック系ポジ型レジストのレジスト特性
    5. ノボラック系ポジ型レジストの現像温度とレジスト特性との関係
  4. 化学増幅ポジ型レジストの材料設計
    1. 化学増幅ポジ型3成分レジストのベース樹脂とレジスト特性
      • ベース樹脂
      • 溶解抑制剤
      • 酸発生剤
    2. 化学増幅ポジ型3成分レジストの溶解抑制剤とレジスト特性
    3. 化学増幅ポジ型3成分レジストの酸発生剤とレジスト特性
    4. EUVレジストへの展開
    5. i線厚膜レジストへの展開
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主催

株式会社 R&D支援センター
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

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  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2024年12月12日〜20日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
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