技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体洗浄の要点とトラブル対策

実機動画で学ぶ

半導体洗浄の要点とトラブル対策

オンライン 開催 デモ付き

概要

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

開催日

  • 2023年10月30日(月) 13時30分 16時30分

受講対象者

  • 半導体洗浄技術を構成している要素・要点を知りたい技術者
  • 半導体洗浄技術の課題を理解しているが、その解決方法を模索している技術者

修得知識

  • 薬液の機能と使い分け
  • 水流を理解し、改善する視点
  • 微細パターンが洗浄において具体的に意味すること
  • トラブルの分類と対策の選択法

プログラム

 半導体表面の汚れを原子レベルで洗うには、 (1) 薬液を選び、 (2) 表面に付きまとう水の層 (境界層) の下 (奥) で反応 させ、 (3) 取れた汚れを表面に戻さない工夫が大切であり、 (4) 工程全体を水流が支えています。
 そこで、本セミナーでは、薬液について 選び方を説明した上で、狭い溝と深い孔を洗うための薬液量が意外なほど多いことを示します。水流については、湿式洗浄の 実機 (枚葉式装置とバッチ式装置) の実例と改善例を可視化観察動画と数値計算例で具体的に解説します。超音波によって洗 浄槽内に生まれる水と気泡の動きも、動画で紹介します。以上をまとめた上で、トラブル対策の視点について説明します。

  1. 洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報源
    • 国際学会
    • 国内学会
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
      • こする
      • 乾かす
    2. 流れ、熱、拡散、反応
    3. 装置内流れの種類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    4. 流れの可視化観察
      • 身近な例を動画で紹介
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機 (200mmΦウエハ用実機)
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 化学反応の例
    2. バッチ式洗浄機 (300mmΦウエハ用実機)
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流の最適化 (変えてみた例)
    3. 超音波の働き
      • 300mmΦウエハ用バッチ式洗浄機の観察動画
  7. まとめ:困った時の視点と対策
    1. 洗えない時、洗いにくい時の対策選択
    2. 微細空間 (溝・孔) が生み出す諸課題と洗浄の視点

講師

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 40,000円 (税別) / 44,000円 (税込)
複数名
: 18,000円 (税別) / 19,800円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,000円(税別) / 19,800円(税込)となります。

  • Eメール案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,000円(税別) / 39,600円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 36,000円(税別) / 39,600円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 54,000円(税別) / 59,400円(税込)
  • Eメール案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 80,000円(税別) / 88,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 120,000円(税別) / 132,000円(税込)

アカデミック割引

  • 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/4/9 半導体チップレットと先端パッケージングの最新開発動向と展望 オンライン
2025/4/14 半導体分野を革新するめっき技術 オンライン
2025/4/15 半導体デバイス製造工程の基礎 オンライン
2025/4/18 超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法 オンライン
2025/4/22 先進半導体パッケージを理解するための三次元集積化技術の最新動向 オンライン
2025/4/23 高薬理活性物質を扱うマルチパーパス設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 オンライン
2025/4/24 AI、MI、機械学習、データサイエンスなどを用いた半導体・電気電子分野における開発効率化、製造および品質向上への活用 オンライン
2025/4/24 次世代パワーデバイス技術の展望と課題 オンライン
2025/4/24 パワー半導体用SiCの単結晶成長技術およびウェハ加工技術の開発動向 オンライン
2025/4/24 半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術 オンライン
2025/4/24 戦略的かつ効率的な原薬製造設備の洗浄プロセス設計と洗浄バリデーション オンライン
2025/4/25 半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術 オンライン
2025/4/30 自動車の電動化に向けたシリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 オンライン
2025/5/12 超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法 オンライン
2025/5/12 高薬理活性物質を扱うマルチパーパス設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 オンライン
2025/5/15 超音波洗浄のメカニズムと機器選定・洗浄評価法 オンライン
2025/5/21 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン
2025/5/21 超音波洗浄のメカニズムと機器選定・洗浄評価法 オンライン
2025/5/22 半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2025年版) オンライン
2025/5/28 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン

関連する出版物

発行年月
2024/9/13 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート
2024/6/19 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術
2024/4/30 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術
2024/4/8 ウォータージェット技術 技術開発実態分析調査報告書
2024/4/8 ウォータージェット技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/4/1 ファインバブル (微細泡) 活用技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/4/1 ファインバブル (微細泡) 活用技術 技術開発実態分析調査報告書
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/6/17 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (追補版)
2022/6/17 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (追補版) (製本版+ebook版)
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望