技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2023年8月1日〜7日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2023年8月1日まで承ります。
本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。
フォトレジストを用いるリソグラフィーは、半導体、ディスプレイ、MEMSなど様々なデバイス製造に必須の技術であり、材料・装置・プロセスの各面から目覚ましい進歩を遂げている。
本講座ではレジスト材料を開発、製造、使用する方々、リソグラフィープロセスでトラブルを抱えている方々を対象に、材料設計、プロセスの最適化、各種トラブル解決策を中心に丁寧に解説します。特に研究開発、デバイス製造、市場開拓といった実務上での取り組み方について、実例を交えて解説します。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
ライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/2/13 | ブロック共重合体 (BCP) を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向・展望 | オンライン | |
2025/2/20 | 半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術 | オンライン | |
2025/3/5 | 半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術 | オンライン | |
2025/3/6 | EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2012/3/9 | フォトレジスト材料の評価 |
2012/2/25 | フォトレジスト 技術開発実態分析調査報告書 |