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半導体表面におけるウェットプロセスの理解、制御、最適化技術

半導体表面におけるウェットプロセスの理解、制御、最適化技術

~半導体表面の支配・制御に向けた要点とノウハウ~
オンライン 開催 個別相談付き

概要

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

開催日

  • 2021年7月29日(木) 10時30分 16時30分

修得知識

  • ウェットプロセスを支配する基礎理論
  • ウェットエッチングの基礎
  • コントロール要因
  • 形状制御技術
  • ウェット洗浄の基礎と高精度化
  • 半導体デバイス製造におけるクリーン化
  • ウェットエッチングの基礎と高精度化
  • 製品の歩留まり向上や品質改善・技術開発における基盤技術

プログラム

 半導体ウェットプロセスは、半導体製品の歩留まりに直結しているため、重要なキーテクノロジーの1つとして位置づけられています。
 本セミナーでは、長年、講師が先端半導体製品の開発製造に携わった経験から、半導体ウェットプロセスに注目し、ユーザー視点における半導体洗浄やウェットエッチング技術の要点とノウハウを丁寧に解説します。特に、半導体表面の汚染物質や微粒子の付着除去について説明します。また、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。また、受講者が抱えている日頃の研究開発および現場トラブルに関する相談にも個別に対応します。

  1. ウェットプロセス技術と半導体デバイス
    • ウェットプロセスと半導体産業 (特長と歩留まり改善効果)
    • 半導体表面の性質
      • 表面再構成
      • Herringの式
      • エイリンガム図
    • デバイス不良対策
      • Vth閾値
      • CVシフト
      • 絶縁耐圧
  2. ウェットプロセスを支配する基礎理論
    • 濡れ性の基礎 (各式)
      • Laplace
      • Young
      • Wenzel
      • Cassie
      • Newman
    • 表面 (付着) エネルギーと分散/極性成分マップ
      • Dupreの式
      • Fowksの式
    • 界面への浸透機構
      • 拡張濡れエネルギーS
      • 円モデル
    • 濡れ制御
      • 親水/疎水化処理
      • 界面活性剤
    • 溶存ガス/気泡の性質
      • 脱離
      • 合一
      • 溶解
    • 腐食溶解
      • ポテンシャル – pH電位図
    • 機能水の性質
      • 液中酸化と高抵抗率化
    • ゼータ電位とpH制御
      • 溶液中の帯電
    • 処理装置
      • 液循環
      • ディップ
      • シャワー
      • スピンエッチ
      • フィルタリング
    • 乾燥痕対策
      • マランゴニー対流
      • IPA蒸気乾燥
  3. ウェット洗浄の基礎と高精度化
    • RCA洗浄
      • 重金属除去
      • 酸化還元電位
    • ファイン粒子の吸着力
      • Hertz理論
      • JKR理論
      • DMT理論
    • 微粒子間の引力
      • Derjaguin近似
      • 凝集ルール
    • 溶液中の粒子付着と除去
      • DLVO理論
    • 液体ラプラス力
      • 液膜による凝集力
    • DPAT技術
      • AFMによる剥離力の直接測定
  4. ウェットエッチングの基礎と高精度化
    • 加工技術としての位置づけ
      • 設計値とシフト量
    • 基本プロセスフロー
      • 前処理
      • 表面洗浄
      • エッチング液
      • マスク除去
      • 洗浄
    • プロセス支配要因
      • 濡れ
      • 律速
      • 反応速度
      • エッチング機構
    • 等方性/結晶異方性エッチング
      • アンダーカット
      • 結晶方位依存性
    • マスク剤の最適化
      • エッチング耐性
      • 熱だれ
      • 応力
    • 形状コントロール要因
      • 界面濡れ性
      • 応力集中
      • 液循環
      • マスク耐性
  5. 質疑応答
    • 日頃の疑問、トラブル、解析・技術開発相談に個別に応じます

講師

  • 河合 晃
    長岡技術科学大学
    名誉教授

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 30,400円 (税別) / 33,440円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 30,400円(税別) / 33,440円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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