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めっき膜における密着性改善・剥離対策の考え方と分析・解析手法

めっき膜における密着性改善・剥離対策の考え方と分析・解析手法

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、めっき技術に求められる機能や特性について解説し、また、めっきにおけるトラブル対策や研究事例についても詳解いたします。

開催日

  • 2014年1月27日(月) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • めっき加工技術に携わる研究者、加工担当者

修得知識

  • めっき膜の性質
  • めっき膜の析出挙動
  • めっき膜の分析・評価技術
  • めっきにおける品質管理の重要性
  • めっき不良対策

プログラム

 現在、めっき技術は、自動車や電気・電子産業をはじめ次世代にも発展し続ける産業を支える基盤技術としてその確固たる地位を築いています。
 本講習では、めっき技術に求められる機能や特性についてお話しするとともに、めっき皮膜の評価・分析技術を実際の製品等を交えながら紹介します。さらにめっきにおけるトラブルシューティングや研究事例も紹介します。

  1. めっきの基礎
    1. めっきの析出メカニズム
    2. めっきの種類
      1. 電気めっき
      2. 無電解めっき (化学めっき)
      3. 浸漬めっき
      4. その他のめっき
    3. 金属材料の基礎
  2. めっきに求められる機能
    1. 表面の特性 (機械的特性、電気磁気的特性、光学的特性、熱的特性、物理的特性、化学特性、装飾性等)
    2. 環境対応型めっき技術
    3. その他のめっき
  3. めっき皮膜の分析技術
    1. 各種表面分析法の種類とその特徴
      1. 電子を用いた分析法 (SEM、EPMA、AES等)
      2. 光を用いた分析法 (XPS、FT-IR等)
    2. めっき不良対策に必要な表面・測定技術と実際の適用例
  4. めっき皮膜の密着性
    1. 素材から見ためっき皮膜の密着性
    2. めっき皮膜の密着性確保の指針
    3. 密着性の評価方法
    4. 無電解Niめっき膜の剥離対策と密着性の改善
  5. 最近の研究事例の紹介
    1. Snめっきウィスカの発生機構とPbの抑制効果
    2. Al合金への装飾めっき
    3. クロムフリーZn系ハイブリッドめっき技術等
  6. まとめ
    • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 日野 実
    広島工業大学 工学部 機械システム工学科
    教授

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 研修室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
本セミナーは終了いたしました。

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