第1章 薄膜トランジスタ (TFT:thin film transistor) 製造技術

• 1.はじめに
• 2.ディスプレイイノベーションの次の波を可能にする材料工学の役割
  • 2.1 Applied Materials
  • 2.2 ディスプレイ技術ロードマップ
  • 2.3 なぜLCD?
  • 2.4 なぜOLED (LCDとの比較) ?
  • 2.5 酸化物半導体 (MOx) TFT
  • 2.6 新技術
  • 2.7 まとめ
  • 2.8 著者所見
    • 参考・引用文献
• 3.固相結晶化による高移動度 IGO:H TFT
  • 3.1 背景
  • 3.2 IGOおよびIGO:Hフィルムの成膜方法
  • 3.3 結果と考察
  • 3.4 まとめ
  • 3.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 4.青色レーザーダイオードアニーリングによるラテラル結晶Si
  • 4.1 背景
  • 4.2 実験準備
  • 4.3 実験結果
  • 4.4 まとめ
  • 4.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 5.チャネル長がサブミクロンの酸化物半導体FETの作製
  • 5.1 背景
  • 5.2 SELの取り組み
  • 5.3 作製方法
  • 5.4 電気的特性の評価
  • 5.5 ドライバー回路設計
  • 5.6 結論
  • 5.7 著者所見
    • 参考・引用文献

第2章 OLED&QLED (製造、デバイス、プロセス)

• 1.はじめに
• 2.オンデマンドOLED
  • 2.1 歴史
  • 2.2 実験
  • 2.3 結果と考察
  • 2.4 結論
  • 2.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 3.Cdフリー量子ドット発光ダイオード
  • 3.1 背景
  • 3.2 実験
  • 3.3 結果と考察
  • 3.4 結論
  • 3.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 4.ディスプレイ用フォトパターン化可能な有機材料
  • 4.1 はじめに
  • 4.2 背景
  • 4.3 特性
  • 4.4 結論
  • 4.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 5.カソードパターニング材料 (CPM™) と応用
  • 5.1 はじめに
  • 5.2 背景
  • 5.3 Cathode Patterning Materials™ (CPM™)
  • 5.4 ディスプレイ市場動向
  • 5.5 ディスプレイの下にカメラ (UDC) およびIRセンサー (IDIR) の設置
  • 5.6 著者所見
    • 参考・引用文献
• 6.超長寿命深青OLEDデバイス
  • 6.1 はじめに
  • 6.2 背景
  • 6.3 ReSTI技術
  • 6.4 ReSTI技術のメカニズムに関する実験
  • 6.5 ReSTI技術を使用した超長寿命デバイスの作製
  • 6.6 結論
  • 6.7 著者所見
    • 参考・引用文献
• 7.超高性能青色蛍光OLED
  • 7.1 はじめに
  • 7.2 背景
  • 7.3 キャリア輸送材料を変更した光学シミュレーション
  • 7.4 低屈折率正孔輸送材料の開発
  • 7.5 低屈折率電子輸送材料の開発
  • 7.6 超高性能トップエミッション青色蛍光デバイス
  • 7.7 結論
  • 7.8 著者所見
    • 参考・引用文献

第3章 次世代ディスプレイデバイス、材料

• 1.はじめに
• 2.ライトフィールドディスプレイ
  • 2.1 背景
  • 2.2 目標と主な要因
  • 2.3 アプローチ
  • 2.4 議論と結論
  • 2.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 3.超短焦点レンズを使用した全方向プロジェクションVRシステム
  • 3.1 はじめに
  • 3.2 UST-CSの特徴
  • 3.3 各種システムへの適用
  • 3.4 結論
  • 3.5 著者所見
    • 参考・引用文献
• 4.高透明シースルーLCD
  • 4.1 背景
  • 4.2 開発した透明ディスプレイの原理
  • 4.3 実験手順と光学特性の評価方法
  • 4.4 結果
  • 4.5 プロトタイプ
  • 4.6 結論
  • 4.7 著者所見
    • 参考・引用文献
• 5.AR/VR向け高解像度・高輝度マイクロLEDの現状と展望
  • 5.1 はじめに
  • 5.2 なぜマイクロLEDディスプレイが必要か?
  • 5.3 高輝度・高解像度マイクロLEDディスプレイの実現に向けての課題
  • 5.4 指向性GaN マイクロLED基本動作原理、発光効率・ディスプレイ輝度の理論予測
  • 5.5 指向性GaN マイクロLED
  • 5.6 まとめ
  • 5.7 今後の展望
  • 5.8 著者所見
    • 参考・引用文献
• 6.パッシブおよびアクティブ フォトニック コンポーネント用の新しい液晶および反応性メソゲン混合物
  • 6.1 はじめに
  • 6.2 背景
  • 6.3 ディスプレイ用途向け液晶
  • 6.4 ディスプレイ用反応性メソゲン
  • 6.5 デジタル光学用の液晶およびRM
  • 6.6 RM表面レリーフ格子
  • 6.7 まとめ
  • 6.8 著者所見
    • 参考・引用文献
• 7.ディスプレイ用赤、緑、青のレーザーダイオード
  • 7.1 歴史
  • 7.2 応用
  • 7.3 プロジェクター・レーザーテレビ
  • 7.4 HMD、AR/MRメガネ
  • 7.5 レーザーバックライト
  • 7.6 まとめ
  • 7.7 著者所見
    • 参考・引用文献

第4章 Society 5.0対応デバイス

• 1.はじめに
• 2.低価格・低消費電力ディスプレイ
  • 2.1 はじめに
  • 2.2 背景と目的
  • 2.3 ディスプレイ
  • 2.4 結果
  • 2.5 結論
  • 2.6 著者所見
    • 参考・引用文献
• 3.省エネに最適な液晶ディスプレイ技術
  • 3.1 はじめに
  • 3.2 背景
  • 3.3 高い透過率とその影響
  • 3.4 UBplusによる改善点–透過率15～20%増加の影響?
  • 3.5 性能比較と最近の動向
  • 3.6 結論
  • 3.7 著者所見
    • 参考・引用文献
• 4.ナノメッシュセンサー
  • 4.1 背景
  • 4.2 実験
  • 4.3 結果
  • 4.4 結論
  • 4.5 著者所見
    • 参考・引用文献

第5章 量子コンピュータと次世代人工知能

• 1.はじめに
• 2.量子コンピュータの現状と未来
  • 2.1 はじめに
  • 2.2 量子力学から量子技術へ
  • 2.3 量子コンピュータの歴史
  • 2.4 量子コンピュータの仕組み
  • 2.5 量子コンピュータの現状
  • 2.6 社会課題と量子コンピュータ
  • 2.7 産業界・政府・我々のとりくみ
  • 2.8 まとめ
  • 2.9 著者所見
• 3.次世代脳型人工知能技術「ゆらぎ学習 (Yuragi Learning) 」
  • 3.1 はじめに
  • 3.2 背景と狙い
  • 3.3 ヒト脳に倣う
  • 3.4 ゆらぎ学習概要
  • 3.5 ゆらぎ学習の適用事例
  • 3.6 技術のオープン化
  • 3.7 まとめ
  • 3.8 著者所見

第6章 市場動向

• 1.はじめに
• 2.FPD市場の概要
  • 2.1 LCD/OLED別表示ユニット需要予測
  • 2.2 LCD/OLED Fab Capacity Trends
  • 2.3 LCD&OLEDファブの使用率と供給対需要
  • 2.4 OLED/Mini LED/LCDパネルコスト比較
  • 2.5 まとめ
  • 2.6 著者所見
    • 参考・引用文献
• 3. ディスプレイメーカー向けのAR/VRの機会
  • 3.1 はじめに
  • 3.2 AR・VRの定義
  • 3.3 VRの主なトレンド
  • 3.4 シースルーAR
  • 3.5 市場予測
  • 3.6 ARおよびVRディスプレイの要件
  • 3.7 AR/VRディスプレイ技術
  • 3.8 まとめ
  • 3.9 著者所見
    • 参考・引用文献
• 4.Micro LEDの展望
  • 4.1 はじめに
  • 4.2 Micro LEDの定義と特徴
  • 4.3 応用
  • 4.4 製造
  • 4.5 Micro LEDのDSCC市場予測
• 5.著者所見
  • 参考・引用文献
• おわりに