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2026/6/3 |
適正な知財コストの考え方と権利維持、放棄の決め方 |
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オンライン |
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2026/6/3 |
半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 |
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オンライン |
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2026/6/5 |
他社特許分析の実務と生成AIを使った効率化、"強い" 特許を得るための考え方・具体的方法 |
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オンライン |
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2026/6/5 |
半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策 |
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オンライン |
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2026/6/8 |
AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 |
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オンライン |
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2026/6/10 |
特許出願書類作成における権利範囲設定の考え方と留意点 |
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オンライン |
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2026/6/11 |
半導体 (IC) の製造工程と半導体用素部材の基本情報 |
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オンライン |
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2026/6/11 |
世界半導体産業への羅針盤 |
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オンライン |
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2026/6/12 |
生成AIを活用した技術 & 知財戦略の策定方法 |
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オンライン |
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2026/6/12 |
半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 |
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オンライン |
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2026/6/12 |
日本の特許審査における拒絶理由通知への対応力向上ノウハウ |
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オンライン |
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2026/6/15 |
生成AIを活用した技術 & 知財戦略の策定方法 |
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オンライン |
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2026/6/15 |
日本の特許審査における拒絶理由通知への対応力向上ノウハウ |
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オンライン |
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2026/6/16 |
不実施補償の考え方、交渉ポイントと共同開発契約の進め方 |
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オンライン |
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2026/6/17 |
AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 |
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オンライン |
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2026/6/17 |
後発医薬品の市場参入を加速させる特許戦略 |
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オンライン |
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2026/6/19 |
IPランドスケープ®実践に役立つ6つのハウツー講座 |
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オンライン |
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2026/6/19 |
パテントマップの基礎と実践的作成・解析手法 |
東京都 |
会場・オンライン |
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2026/6/19 |
特許出願書類作成における権利範囲設定の考え方と留意点 |
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オンライン |
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2026/6/22 |
IPランドスケープ®実践に役立つ6つのハウツー講座 |
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オンライン |
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2026/6/22 |
AI半導体デバイス・サーバーにおける熱対策と冷却技術の最新動向 |
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オンライン |
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2026/6/23 |
半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間) |
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オンライン |
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2026/6/23 |
半導体デバイス・プロセス開発の実際 (前編) |
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オンライン |
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2026/6/23 |
先端冷却・放熱技術の研究開発動向 |
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オンライン |
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2026/6/23 |
生成AIの平均的な正解を超えるテキスト分析 |
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オンライン |
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2026/6/23 |
半導体パッケージの基礎から各製造工程の技術ポイントおよび今後の技術動向 |
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オンライン |
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2026/6/23 |
酸化ガリウムパワーデバイスの開発動向と今後の展望 |
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オンライン |
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2026/6/24 |
CMPの基礎と最適なプロセスを実現する実践的総合知識 |
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オンライン |
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2026/6/24 |
半導体デバイス・プロセス開発の実際 (後編) |
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オンライン |
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2026/6/24 |
パワーデバイス向けナノ粒子低温接合技術の開発と熱信頼性評価 |
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オンライン |