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シランカップリング剤の反応メカニズムと使いこなし術

シランカップリング剤の反応メカニズムと使いこなし術

東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2019年2月26日(火) 10時00分17時00分

受講対象者

  • シランカップリング剤に関連する技術者、研究者
    • 半導体封止材
    • 塗料
    • 接着剤
    • 歯科材料
    • 金属接着
    • 樹脂改質
    • 熱可塑性樹脂複合材料
    • FRP
    • エラストマー
    • 樹脂バインダー
    • プライマー
    • コーティング剤 など
  • カップリング剤処理、表面処理を行う技術者

修得知識

  • シランカップリングの基礎
  • シランカップリング剤の選定
  • シランカップリングの反応制御
  • 構造・官能基解析の基礎
  • 反応解析の方法

プログラム

第1部 シランカップリング剤の 反応 (加水分解と脱水縮合) メカニズムと評価

(2019年2月26日 10:00〜12:00)

 シランカップリング剤の使い方について、分かりやすくまとめます。前半部分では、ほとんどの参考書・教科書や論文で触れられることがなかった反応メカニズムや表面処理の解析について、詳細に解説いたします。後半では、これまでに受けたよくある質問をQ&A形式で解説いたします。

  1. シランカップリング剤について
    1. シランカップリング剤の構造と種類
    2. シランカップリング剤の用途
    3. シランカップリング剤の応用範囲および将来展開
  2. シランカップリング剤の反応
    1. シランカップリング剤の反応例
    2. シランカップリング剤の反応メカニズム
      1. 加水分解メカニズム
      2. 脱水縮合メカニズム
      3. 加水分解とpHの影響
      4. 縮合反応とpHの影響
      5. シランカップリング剤の反応に及ぼす溶媒、水分の影響
    3. シラノールの反応中間体並びにシロキサン生成機構
  3. 表面被覆状態の分析・解析法
    1. 解析・評価方法
    2. 解析例
  4. シランカップリング剤による処理条件~考慮すべき点~
    1. 未反応カップリング剤の及ぼす影響
    2. 末端に残ったOH基を消すには?
    3. 反応のバラツキの原因と対策
    4. 反応条件の最適化
      1. 表面前処理と水の影響
      2. 処理温度
      3. 溶媒の選択
      4. 塗布・洗浄時間の影響について
      5. シランカップリング剤の選択のポイント
    • 質疑応答

第2部 シランカップリング剤の選び方、使用方法

(2019年2月26日 12:45〜14:15)

  1. シランカップリング剤とは
    1. 主なシランカップリング剤の構造
    2. シランカップリング剤の作用機構
    3. 代表的な応用分野
  2. シランカップリング剤水溶液の使いこなし
    1. 加水分解溶液の調整方法
    2. シランカップリング剤の加水分解挙動
    3. 加水分解速度
      • 各種シランの最適pHと安定性
      • 官能基数依存性
      • 構造基依存性
    4. 水溶液中のシロキサン組成
      • pH依存性
      • 濃度依存性
      • 経時変化
  3. シランカップリング剤による樹脂改質
    1. 化学反応による改質
    2. 反応性シランによる各種改質法
    3. 各種樹脂への適用シラン
    4. 共重合による改質
    5. グラフト化による改質
  4. シランカップリング剤の粉体処理
    1. 無機フィラーへのシラン処理量
    2. 湿式処理法
    3. 乾式処理法
    4. メタノール疎水化度による表面状態分析
    5. シラン処理シリカの分析
  5. 各種シランカップリング剤の使用例
    1. ビニルシラン
    2. エポキシシラン
    3. アミノシラン
    4. (メタ) アクリルシラン
    5. メルカプトシラン、スルフィドシラン
    6. イソシアネートシラン
  6. 新規シラン材料、オリゴマー製品の紹介
    1. 長鎖スペーサー型シランカップリング剤
    2. 官能基保護型シランカップリング剤
    • 質疑応答

講師

  • 海野 雅史
    群馬大学 大学院 理工学府 化学・生物化学専攻
    教授
  • 廣神 宗直
    信越化学工業 株式会社 シリコーン電子材料技術研究所 第一部開発室

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

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複数名
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    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 108,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 162,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
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