技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。
半導体表面の汚れを原子レベルで洗うには、 (1) 薬液を選び、 (2) 表面に付きまとう水の層 (境界層) の下 (奥) で反応 させ、 (3) 取れた汚れを表面に戻さない工夫が大切であり、 (4) 工程全体を水流が支えています。
そこで、本セミナーでは、薬液について 選び方を説明した上で、狭い溝と深い孔を洗うための薬液量が意外なほど多いことを示します。水流については、湿式洗浄の 実機 (枚葉式装置とバッチ式装置) の実例と改善例を可視化観察動画と数値計算例で具体的に解説します。超音波によって洗 浄槽内に生まれる水と気泡の動きも、動画で紹介します。以上をまとめた上で、トラブル対策の視点について説明します。
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また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,000円(税別) / 19,800円(税込)となります。
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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