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リソグラフィ技術の開発動向とレジスト材料への要求特性、トラブル対策

リソグラフィ技術の開発動向とレジスト材料への要求特性、トラブル対策

~最新のロードマップからリソグラフィ技術の最新動向、方向性を解説 / レジスト材料に求められる特性や実際に発生する問題点を洗い出す~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

開催日

  • 2023年6月9日(金) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • リソグラフィ、レジストに関連する技術者、開発者、研究者

修得知識

  • リソグラフィの最先端技術
  • レジスト材料の最先端技術と要求特性
  • レジスト材料のトラブル対策
  • リソグラフィの課題と対策
  • リソグラフィ、レジストの開発動向
  • レジストのビジネス動向

プログラム

 メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加えて、待ち望まれていたEUVが用いられはじめている。レジストはこのようなリソグラフィの変革に対応して進展し続けている。
 本講演では、最新のロードマップを紹介し、EUVを中心としたリソグラフィの最先端技術、開発動向、レジスト材料への要求特性について解説する。量産工程で実際に起こるレジスト材料のトラブルについて、その対策の詳細を述べる。さらにリソグラフィの技術展望、レジストの市場動向についてまとめる。

  1. ロードマップ
    1. リソグラフィ、レジストへの要求特性
    2. 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
  2. リソグラフィの最先端技術、開発動向とレジスト材料への要求特性
    1. EUVリソグラフィ
      1. EUVリソグラフィの現状と課題・対策
      2. EUVリソグラフィの開発動向
      3. EUVレジストの要求特性と設計指針
      4. EUVレジストの開発動向
      5. EUVメタルレジストの特徴・性能と開発動向
    2. ダブル/マルチパターニング
      1. リソ – エッチ (LE) プロセス
      2. セルフアラインド (SA) プロセス
    3. 自己組織化 (DSA) リソグラフィ
      1. グラフォエピタキシー
      2. ケミカルエピタキシー
    4. ナノインプリントリソグラフィ
  3. レジスト材料のトラブル対策
    1. レジストパターン形成不良への対応
      1. パターン倒れ
      2. パターン密着性不良
      3. パターン形状不良
      4. チップ内のパターン均一性不良
    2. 化学増幅型レジストのトラブル対策
      1. レジスト材料の安定性
      2. パターン形成時の基板からの影響
      3. パターン形成時の大気からの影響
    3. ArF液浸リソグラフィ用レジストのトラブル対策
  4. リソグラフィの技術展望
  5. レジストの市場動向
    • 質疑応答

講師

  • 遠藤 政孝
    大阪大学 産業科学研究所
    招聘教授

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
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  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
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  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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