技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているダブル/マルチパターニングに加えて、待ち望まれていたEUVが用いられはじめている。レジストはこのようなリソグラフィの変革に対応して進展し続けている。
本講演では、最新のロードマップを紹介し、EUVを中心としたリソグラフィの最先端技術、開発動向、レジスト材料への要求特性について解説する。量産工程で実際に起こるレジスト材料のトラブルについて、その対策の詳細を述べる。さらにリソグラフィの技術展望、レジストの市場動向についてまとめる。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/5/28 | 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 | オンライン | |
2024/5/29 | EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 | オンライン | |
2024/5/30 | レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2024/6/11 | 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 | オンライン | |
2024/6/12 | レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2024/6/12 | 半導体用レジストの材料設計とその評価 | オンライン | |
2024/6/21 | EUVを中心としたリソグラフィ技術の最新動向とレジスト材料への要求特性 | オンライン | |
2024/6/28 | レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策 | オンライン | |
2024/7/2 | EUVを中心としたリソグラフィ技術の最新動向とレジスト材料への要求特性 | オンライン | |
2024/7/5 | レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策 | オンライン | |
2024/7/30 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2024/8/21 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2024/9/20 | 半導体製造プロセス 入門講座 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |