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EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、光源の開発

EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、光源の開発

～EUV技術による微細化追求はどこまで続くのか / レジスト、マスク、光源、ペリクルなど、各部材の微細化への対応状況を探る～
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概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

開催日

  • 2022年3月10日(木) 10時00分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • EUVリソグラフィーの基礎、必要性
  • EUVリソグラフィーの動向
  • フォトレジスト開発従事者による材料面からみたリソグラフィの歴史
  • 国家プロジェクトにおける要素検討状況
  • 先端EUVレジストの課題とその解決検討状況

プログラム

第1部 EUVリソグラフィーの最新動向と課題解決への技術開発

(2022年3月10日 10:00〜12:00)

　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センターでは1996年よりEUVリソグラフィーの基盤技術開発に精力的に取り組んで来ました。これまで4つの国家プロジェクトに約20年間参画・先導し、また、多くの国内外の企業と共同研究を進めて参りました。
　EUVリソグラフィー (EUVL) 技術は2020年よりスマートフォン、タブレット等のロジックデバイスの量産技術として本格的な量産技術として採用されており、EUVLの先端研究の現状、課題について解説します。また、次世代の半導体の量産に向けて多くのEUVL技術課題があり、この課題解決に向けては黎明期での開発の内容を知った上で課題可決に取り組む必要があります。このため、EUVL黎明期を解説するとともに、課題解決に向けた取り組み内容を紹介します。
　一方で、我が国の経済活性化には半導体技術の進展が不可欠であり、併せて国の安全保障と密接に絡む技術です。この意味においても、半導体前半工程である半導体微細加工技術が果たす役割が未だに強い状況です。世界に於ける日本の半導体技術覇権に向けた問題点・課題についても触れたいと存じます。

  1. 半導体国際ロードマップの紹介
  2. 微細加工技術の必要性とその効果
  3. なぜEUVリソグラフィーが必要か?
  4. EUVリソグラフィーの黎明期について
  5. EUVレジスト、マスク、ペリクル技術の現状とそれらの技術課題
  6. EUVリソグラフィー課題克服に向けた取り組み
  7. Beyond EUVリソグラフィー技術開発に向けた取り組みの紹介
  8. 世界に於ける日本の半導体技術覇権に向けての問題点・課題
  9. まとめ
    • 質疑応答

第2部 EUVリソグラフィ用フォトレジストの開発動向と要求特性

(2022年3月10日 13:00〜14:30)

　昨今、私たちは新たなデジタル社会を迎え入れようとしている。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Society 5.0等の発展に対し、さらなる電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現にはフォトレジスト材料の開発が必須である。
　フォトレジスト材料の微細化の歴史および究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発について解説する。

  1. 私たちの世の中を取り巻く環境の変化
    1. アナログからデジタルへ
    2. 電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化の例
  2. リソグラフィ微細化の歴史
    1. ムーアの法則を実現する露光波長短波化によるリソグラフィの微細化
    2. EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命
    3. ArF液浸リソグラフィ延命の切札、富士フイルムによるNegative – tone imaging (NTI) 技術の発明
  3. EUVリソグラフィ
    1. EUVリソグラフィの歴史
    2. 国家プロジェクトであるEIDEC (EUVL基盤開発センター) での要素開発紹介
      • EUVレジスト実用化に至るまでの長い道のりの振り返り
        (アウトガス問題の解決と世界アライン、メタルレジストの開発)
    3. EUVレジストの課題、最新動向、技術開発の紹介
      • ストカスティック (確率論的) 因子低減と量産適用に対する開発
    • 質疑応答

第3部 EUVリソグラフィ用光源の開発動向と微細化への対応

(2022年3月10日 14:45〜16:15)

　AI, IoT, EV,次世代ディスプレイ,スマートシティー,省エネなどSDGsを意識した活動が盛んになってきました。COVID – 19の影響からかスマートフォンやノートパソコンも活況。いまや「半導体」という言葉を「半導体不足」という言葉とともに聞かない日はありません。「産業のコメ」と呼ばれた半導体素子はいまや「産業のブレイン」と言われるまでになりました。EUVリソグラフィー登場し,半導体素子の高性能化・省エネ化が加速しています。
　本講座では,EUVリソグラフィーの露光と光源について平易にお話する予定です。

  1. EUVリソグラフィーとは
    1. 半導体素子の回路線幅の微細化と高集積化について最近の動向を簡単に
    2. 露光用光源とは
  2. EUV光源について
    1. EUV光源の原理
    2. 各種EUV光源
  3. レーザー生成プラズマEUV光源
    1. 光源の物理と技術
    2. 装置構成
  4. Beyond EUV (BEUV) 光源
    1. beyond (BEUV) 光源とは?
    2. BEUV光源の現状と課題
  5. まとめ
  6. 今後の展開
    • 質疑応答
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講師

  • 渡邊 健夫 氏
    兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
    所長 / 教授
  • 藤森 亨 氏
    富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ研究所
    シニアエキスパート
  • 東口 武史 氏
    宇都宮大学 工学部
    教授
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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