技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、プラズマCVDによって目的の高品質膜を得るのに必要となる基礎知識を分かりやすく解説いたします。
プラズマCVDで、目的とする膜の得るためには、プラズマ源の選定、電源のパラメータ、成膜時のガス種、ガス圧力、ガス流量、基板温度などの設定を適切に行う必要があります。そのためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。
また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、電源周波数やガス圧力等の各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。
本講演では、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際に必要となる上記のような基礎知識を受講者の方々の頭の中に持って頂くことを趣旨としました。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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