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マイクロカプセル化技術と用途展開

マイクロカプセル化技術と用途展開

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、アロイ材料の物性制御を行うための必須知識について具体例を挙げながら解説いたします。

開催日

  • 2016年7月25日(月) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • マイクロカプセルに関連する技術者
    • 医薬品
    • 化粧品
    • 食品
    • 農薬
    • 接着剤
    • 芳香剤
    • 感熱紙
    • 感圧紙
    • 電子ペーパー など

修得知識

  • マイクロカプセルの基礎的事項 (機能、粒径制御法と内部構造)
  • マイクロカプセルの一般的な調製法
  • マイクロカプセルの化学的調製法の具体例
  • マイクロカプセルの用途展開例
  • 文献からの調製例の紹介
  • スプレードライ法、噴霧冷却法、振動滴下法によるマイクロカプセル化の応用例、ヒントとテクニック

プログラム

1. 化学的調製法によるマイクロカプセル化技術と応用展開

(2016年7月25日 10:30~14:10)

  1. マイクロカプセルの基礎
    1. 種類、形状、機能、大きさ、構造
    2. マイクロカプセルの一般的な調製法
    3. マイクロカプセルの特性評価法
      • 大きさ
      • 含有率
      • 透過係数
      • カプセル化効率
      • 内部構造
  2. マイクロカプセルの化学的調製法の実際
    1. 懸濁重合法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    2. ソープフリー重合法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    3. 界面重縮合反応法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    4. in-situ重合法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    5. 液中硬化法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    6. シード重合法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    7. ゾル-ゲル法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
    8. ミニエマルション重合法
      • 特長 (構造、大きさ、形状)
      • 調製法の手順
      • 調製例
  3. マイクロカプセルの用途展開
    1. 食品分野
    2. 塗料分野 (自己修復剤)
    3. 蓄熱技術分野
    4. 化粧品分野
    5. 医薬品分野
    6. その他
  4. 文献における最近の調製例
    • 質疑応答

2. スプレードライ、噴霧冷却法、振動滴下法によるマイクロカプセル化の基礎と応用

(2016年7月25日 14:20~16:30)

 マイクロカプセル化という技術は、その手法自体や装置性能の習得も重要ですが、それをどう応用させるかという「適切な製造技術の確立」も非常に重要です。この講座では、スプレードライ法、噴霧冷却法、振動滴下法の基礎を学んだ上で、これらの手法によるマイクロカプセル化を応用した新たな製造技術の確立のために役立つヒントとテクニック、各分野での事例を幅広く学ぶ事ができます。

  1. マイクロカプセル化
    1. 代表的な3つの手法の特長比較
    2. カプセル化の用途例
    3. 自作 (手動) と装置活用の大きな違い
  2. スプレードライ法
    1. 原理
    2. 製法
    3. 装置の仕組み
    4. 実際の様子 (動画)
    5. その他
  3. 噴霧冷却法
    1. 原理
    2. 製法
    3. 装置の仕組み
  4. 振動滴下法
    1. 原理
    2. 製法
    3. 装置の仕組み
    4. 実際の様子 (動画)
    5. ヒントとテクニック
    • 質疑応答

会場

大田区産業プラザ PiO

1F B会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
    • 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
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