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シクロデキストリンの分子認識を用いた超分子合成とその応用

シクロデキストリンの分子認識を用いた超分子合成とその応用

～選択的な包接化合物の形成と新素材へのアプローチ～
東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2014年6月25日(水) 13時00分 ～ 16時30分

修得知識

  • シクロデキストリンとさまざまなポリマーとの選択的な相互作用による包接錯体の形成方法
  • 新たな機能材料の生成法
  • 物性や機能の評価法

プログラム

　グルコースの環状オリゴマーであるシクロデキストリン (CD) はその環内に様々な分子をとりこみ、包接化合物を形成することが知られている。
　演者らはCDが様々なポリマーを選択的にとりこむことを見いだし、このことを利用して、様々なマテリアルを創製することに成功した。
　本講演では、CDとポリマーとの複合体形成により生成される新しい材料に関して解説する。

  1. 分子間相互作用
    1. 水素結合
    2. 静電的相互作用
    3. 疎水性相互作用
  2. 包接化合物
    1. シクロデキストリン
    2. 包接化合物の構造
  3. シクロデキストリンを含むポリマーの合成
  4. シクロデキストリンによるポリマーの取り込み
    1. シクロデキストリンによるポリマーの包接錯体の構造
  5. ポリロタキサンの合成
    1. ポリロタキサンの構造
  6. 分子チューブの合成
    1. 分子チューブの構造
    2. 分子チューブの性質
  7. シクロデキストリンによる高分子側鎖の取り込み
    1. シクロデキストリンポリマーとゲストポリマーとの相互作用
    2. シクロデキストリンポリマーとゲストポリマーによるヒドロゲルの形成
    3. シクロデキストリンポリマーとゲストポリマーによるゾルーゲル転移
  8. 分子認識による巨視的自己組織化
    1. ホストゲルとゲストゲルの調製
    2. ホストゲルとゲストゲルとの相互作用
  9. ホストポリマーとゲストポリマーから自己修復マテリアルの創製
    1. フェロセンをゲストとした酸化還元応答が自己修復の実現
    2. アダマンタンをゲストとした完全自己修復の実現
  10. アゾベンゼンをゲストとした光スイッチング
  11. ピレンをゲストとした溶媒によるスイッチング
  12. 光応答性伸縮ゲル
    1. アゾベンゼンーαCDポリマー
  13. 酸化還元応答伸縮ゲル
    1. フェロセンーβCDポリマー
  14. 形状記憶ゲル
  • 質疑応答
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講師

  • 原田 明 氏
    大阪大学 産業科学研究所
    特任教授
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会場

大田区産業プラザ PiO

6F C会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名同時申込みで1名分無料
    • 1名あたり定価半額の20,000円(税別) / 21,600円 (税込)
    • 2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
    • 同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
    • 3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
    • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
    • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
      申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
    • 他の割引は併用できません。
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