技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

米国特許法改正の要点と改正をふまえた特許戦略・実務

米国特許法改正の要点と改正をふまえた特許戦略・実務

~化学・材料・環境系メーカー担当者が押さえておくべき実務対応~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、改正した米国特許法について基礎から解説し、日本の化学・環境技術系メーカーの特許・知財実務担当者が押さえておくべき点を解説いたします。

開催日

  • 2012年2月28日(火) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • 企業・大学・研究所の知的財産担当者
  • 企業の研究開発担当者
  • 大学・研究所の研究開発コーディネーター
  • 経営者

修得知識

  • 改正 米国特許法の基礎
  • 「先発明者出願主義」 ・ 「米国特有の先願主義」 とはなにか
  • 特許・知財実務担当者が押さえておくべきポイント

プログラム

 米国特許法がついに改正され、いわゆる「先発明主義」が「先願主義」に移行したといわれている。
 米国が憲法違反のリスクを冒してまでも法改正に踏み切ったのはなぜか。
 その背景をひも解くとともに、今回の改正で「先願主義 (First-to-File) 」ではなく「先発明者出願主義 (First Inventor to File) 」と呼ばれる理由はなぜなのか。
 本講座では、米国以外の「先願主義」とは異なる側面にも焦点を当てながら、日本の化学系メーカーの知財実務担当者として気をつけるべき点を、2011年改正をふまえ、大きく変更された出願実務を中心に現在の米国実務を見ながら考えたい。

  1. 化学系の知財実務
    1. ビジネス環境整備の一環としての知財戦略
    2. ビジネス環境整備の一環としての知財のLCM
  2. 化学系の知財実務 ~ グローバル戦略の中の米国実務
    1. ラボノートの重要性 ~実験系学問の必然
      • 発明日の立証
      • 発明者の特定等
    2. 出願日・発明日・優先権主張
    3. グレースピリオド、新規性・非自明性の考え方の基本
    4. 特異な出願制度
      • 仮出願
      • 継続出願
      • 継続審査
      • CIP
    5. クレーム戦略~限定要求
    6. 明細書の記載要件
      • 実施可能要件
      • Written Description
      • Best Mode
    7. 情報提示義務 (IDS) と衡平法
    8. 訴訟~虚偽表示 (False Marking) 訴訟等
  3. グローバルな知財実務
    1. 日本の実務
    2. 相違点・一致点
    3. 米国実務の特異点を考慮した日常実務
    4. 年米国特許改正法
    5. 「先願主義」か?
    6. 有効出願日 (Effective Filing Date) ~優先権
    7. グレースピリオド (先発表者保護主義)
    8. 異議申立 (Review) 等攻撃手段
    9. Best Modeの取り扱い~無効理由と衡平法
    10. Interference (先発明者決定手続) からDerivation (真の発明者決定手続) へ
    11. 国内公用から世界公知・公用
    12. 先使用権の拡大
    13. 人体除外要件
    14. 虚偽表示訴訟の終焉
  4. 判例の動向
    • 質疑応答

講師

  • 馰谷 剛志 (駒谷 剛志)
    山本秀策特許事務所 特許部門 (化学・バイオ・医薬)
    リーダー / 弁理士 (侵害訴訟代理付記)

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん
東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 47,250円 (税込)
複数名
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/12/3 国内外のAI法規制と企業のAIリスク対策 オンライン
2024/12/5 特許情報調査の基本と競合他社調査および技術テーマ調査、技術動向分析の進め方 オンライン
2024/12/5 ADCを含む次世代抗体医薬の知財戦略および強い特許明細書・クレームの書き方 オンライン
2024/12/6 共創の知財戦略による新規事業の創出と実施体制の構築 オンライン
2024/12/9 核酸医薬品の特許戦略 オンライン
2024/12/11 医薬品モダリティ (抗体/核酸/中分子/再生医療) の実用化とDDS技術の特許戦略 オンライン
2024/12/11 ADCを含む次世代抗体医薬の知財戦略および強い特許明細書・クレームの書き方 オンライン
2024/12/12 特許明細書の効率的な読み方と強い特許明細書のつくり方 オンライン
2024/12/12 共同研究・開発契約の実務とトラブル対応 オンライン
2024/12/13 AI/生成AIを活用した研究開発の意思決定と評価軸の考え方 オンライン
2024/12/13 特許情報調査の基本と競合他社調査および技術テーマ調査、技術動向分析の進め方 オンライン
2024/12/13 機械学習/AIによる特許調査の高度化で実践するスマート特許戦略 オンライン
2024/12/13 特許出願・ノウハウ保護の選択基準と留意点 オンライン
2024/12/16 生成AIの支援による特許調査・明細書作成・中間処理の効率化 オンライン
2024/12/16 国内外のAI法規制と企業のAIリスク対策 オンライン
2024/12/17 はじめての化学系特許出願 オンライン
2024/12/17 審査官の審査の仕方、考え方をふまえた特許明細書の書き方とポイント オンライン
2024/12/18 知財戦略とIPランドスケープ入門 オンライン
2024/12/19 特許明細書、出願書類作成への生成AI/ChatGPTの活用 オンライン
2024/12/19 ベンチマーキングの基本と実践法、研究開発テーマへの展開 東京都 会場・オンライン

関連する出版物

発行年月
2012/7/5 デジタル印刷機 技術開発実態分析調査報告書
2012/7/1 太陽光発電【2012年版】 技術開発実態分析調査報告書
2012/7/1 太陽光発電【2012年版】 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 紙おむつ 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/15 紙おむつ 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/5 空気清浄機 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/5 空気清浄機 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/1 防音・吸音・遮音材 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/1 防音・吸音・遮音材 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/1 冷蔵庫 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/1 冷蔵庫 技術開発実態分析調査報告書
2012/5/25 化粧品13社 技術開発実態分析調査報告書
2012/5/25 化粧品13社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/5/20 エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/5/20 エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術 技術開発実態分析調査報告書
2012/5/1 リチウムイオン電池 技術開発実態分析調査報告書
2012/5/1 界面活性剤 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/5/1 界面活性剤 技術開発実態分析調査報告書