技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、光ナノインプリントリソグラフィによるナノ造形・微細加工技術の先端研究例を東北大学・中川勝教授が解説いたします。
基板-レジスト間、レジスト-モールド間における理想的な界面を形成する材料技術、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料、極限ナノ造形を目指すレーザー加工孔版印刷+光ナノインプリント成形技術など独自の先端技術が語られます。
下地基板のナノ加工のための有型成形加工技術、光ナノインプリントリソグラフィに資する材料・プロセス・装置技術を概説します。
材料では、基板-レジスト間の密着分子層形成材料の選択、レジスト-モールド間の離型促進分子層の選択、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料について説明します。
プロセスでは、非破壊で広領域の検査が可能な蛍光検査法、粗密パターンに対応するための被成形体の位置選択的配置法のレーザー加工孔版印刷を紹介します。特に、筆者らが注力しているレーザー加工孔版印刷法を組み込んだナノインプリント技術の特徴を習得できます。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2026/1/6 | 半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年冬版) | オンライン | |
| 2026/1/6 | 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 | オンライン | |
| 2026/1/13 | 半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版) | オンライン | |
| 2026/2/13 | 先端半導体プロセスで求められるレジスト材料・技術 | オンライン | |
| 2026/2/26 | ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法 | オンライン | |
| 2026/3/9 | ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法 | オンライン | |
| 2026/3/17 | 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 | オンライン | |
| 2026/4/3 | 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 | オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
| 2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |