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超親水性表面を実現する材料・表面処理のしくみと技術

超親水性表面を実現する材料・表面処理のしくみと技術

~長寿命な親水性表面/防汚・防曇・反射防止など機能性表面を得るために / 濡れ性の基礎から表面親水化の様々な手法・最新技術を解説~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、材料の液体に対する濡れ性について、基礎的なメカニズムから解説します。
また、特に水に対して高い濡れ性を示し、それに伴う防汚・防曇性などの機能性を発揮する超親水性材料について、系統的な分類および最新の研究事例を紹介いたします。

開催日

  • 2018年10月24日(水) 10時30分16時30分

受講対象者

  • ぬれ性制御に関連する技術者
    • 表面処理
    • 撥水・親水
    • 化学
    • 材料
    • 機械潤滑
    • 半導体製造プロセス
    • 培養培地・細胞・細菌・微生物の付着制御 など
  • 超撥水の応用分野に関連する技術者
    • ディスプレイ
    • 電極材料
    • 太陽電池
    • 燃料電池
    • 衣料品・繊維
    • ガラス など
  • 超親水の応用分野に関連する技術者
    • ナノエレクトロニクス
    • 医療材料
    • プリント基板
    • LCD
    • 熱交換器
    • 燃料電池
    • 衣料品 など
  • 超親水・超撥水を製品開発に応用したい方
    • 防汚
    • 防雪
    • 防氷
    • 防曇
    • セルフクリーニング など

修得知識

  • 材料の液体に対する濡れ性の系統的な理解
  • 超親水性材料の現状と最新動向

プログラム

 本講では、材料の液体に対する濡れ性について、基礎的なメカニズムから解説します。また、特に水に対して高い濡れ性を示し、それに伴う防汚・防曇性などの機能性を発揮する超親水性材料について、系統的な分類および最新の研究事例を紹介します。

  1. 濡れ現象の基礎
    1. 材料の濡れと表面張力、表面自由エネルギー
    2. 濡れ性と水滴接触角
    3. 臨界表面張力
    4. 分散力因子と極性因子から読み解く濡れ
    5. Fowkes式と等接触角線
    6. 動的濡れ性
  2. 濡れ性への影響因子
    1. 表面の化学構造と濡れ性
    2. 表面の微細構造と濡れ性
    3. Cassie – BaxterモデルとWenzelモデル
  3. 超撥水・超親水性表面
    1. 超撥水材料の分類と事例
    2. 超親水性の分類
    3. 超親水材料の事例
    4. 超親水材料の機能性と問題点
  4. 階層性ナノ多孔層 (HNL) による超親水・反射防止ガラス
    1. HNLガラスの構造とその特徴
    2. HNLガラスの形成方法および形成挙動
    3. HNLガラスが示す超親水性とその寿命
    4. HNLガラスによる防汚・防曇性
    5. HNLによるガラス表面の反射防止効果とそのメカニズム
    6. HNLガラスによる、その他の機能性
    • 質疑応答

講師

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 第1グループ活動室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 42,750円 (税別) / 46,170円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,300円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 22,500円(税別) / 24,300円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,750円(税別) / 46,170円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 48,600円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 72,900円(税込)
  • 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
  • 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。

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