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「半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/12/18 新規事業テーマ、アイデア創出における生成AI活用の仕方 オンライン
2025/12/19 生成AIによる特許実務の効率化とプロンプト設計 オンライン
2025/12/19 後発でも負けない特許戦略と先行特許攻略法 オンライン
2025/12/19 コンテンツ「制作」に関する契約書のチェックポイントと法律実務 東京都 会場・オンライン
2025/12/19 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 オンライン
2025/12/22 無効審判・無効抗弁の基本と実践 オンライン
2025/12/22 後発でも負けない特許戦略と先行特許攻略法 オンライン
2025/12/23 PFAS (有機フッ素化合物) 規制の動向と半導体産業への影響 オンライン
2026/1/6 無効審判・無効抗弁の基本と実践 オンライン
2026/1/6 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 オンライン
2026/1/9 共同研究開発における契約書のチェックポイントと留意点 オンライン
2026/1/15 生成AI時代のパテントマップ実践法 オンライン
2026/1/19 半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド オンライン
2026/1/20 共同研究開発における契約書のチェックポイントと留意点 オンライン
2026/1/20 技術ノウハウの秘匿と先使用権の立証に係る留意点 オンライン
2026/1/21 ダイヤモンド半導体の最前線と高性能パワーデバイスの開発・評価法 オンライン
2026/1/22 ダイヤモンド半導体の最前線と高性能パワーデバイスの開発・評価法 オンライン
2026/1/23 半導体・論理回路テストの基礎と応用 オンライン
2026/1/23 半導体プロセスにおける検査・解析技術の基礎と最新技術動向 オンライン
2026/1/26 生成AI時代のパテントマップ実践法 オンライン
2026/1/26 半導体・論理回路テストの基礎と応用 オンライン
2026/1/27 ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と開発事例および最新動向 オンライン
2026/1/28 IPランドスケープによる市場・技術・特許の調査分析と開発戦略・知財戦略の策定 オンライン
2026/1/29 技術ノウハウの秘匿と先使用権の立証に係る留意点 オンライン
2026/1/29 GaNウェハ・パワーデバイスの基礎と今後の展望 オンライン
2026/1/29 特許請求の範囲 (クレーム) をしっかり読めますか? オンライン
2026/2/9 半導体プロセスにおける検査・解析技術の基礎と最新技術動向 オンライン
2026/2/10 BSPDN構造・ハイブリッド接合に向けたプロセス、材料、集積技術の革新動向 オンライン
2026/2/13 IPランドスケープによる市場・技術・特許の調査分析と開発戦略・知財戦略の策定 オンライン
2026/2/26 進歩性の意味、理解できていますか? オンライン

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発行年月
2024/4/22 トプコングループ
2024/4/15 テンセント (騰訊Tencent) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版)
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2024/3/29 後発で勝つための研究・知財戦略と経営層への説明・説得の仕方
2024/3/11 アリババ (阿里巴巴 Alibaba) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版) (CD-ROM版)
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2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
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2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/7/29 費用対効果に基づく外国特許出願国の選び方・進め方
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
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2022/4/4 軸受6社 技術開発実態分析調査報告書
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2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望