技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。
EUVリソグラフィ (EUVL / Extreme Ultra-Violet Lithography) は2020年よりスマートフォン用のロジックデバイスの量産技術として適用されました。しかしながら、今後のEUVLではまだまだ多くのレジスト、マスク等の基盤技術課題が残っています。これらの技術課題の解決にはこの技術の基礎を理解し、その上で課題克服および今後の展開と言った応用展開をする必要があります。また、世界における日本の半導体技術覇権の課題についても言及いたします。今回の講座を通じて少しでもお役に立てればと存じます。
シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 18,000円(税別) / 19,800円(税込)となります。
学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/4/22 | フォトレジスト材料の基礎と課題 | オンライン | |
2024/5/28 | 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 | オンライン | |
2024/5/29 | EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 | オンライン | |
2024/5/30 | レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2024/6/11 | 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 | オンライン | |
2024/6/12 | レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2024/6/12 | 半導体用レジストの材料設計とその評価 | オンライン | |
2024/7/30 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2024/8/21 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2024/9/20 | 半導体製造プロセス 入門講座 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |