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メタマテリアル・メタサーフェスの基礎と応用展開

メタマテリアル・メタサーフェスの基礎と応用展開

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、メタマテリアル・メタサーフェスについて基礎から解説し、その原理・特徴、作製方法と応用について解説いたします。

開催日

  • 2019年4月25日(木) 12時30分 16時30分

受講対象者

  • プラズモニクスの研究者/メタマテリアルの研究開発者
  • MEMS技術の従事者
  • 新規ナノ材料の研究開発者/新規光学現象の研究者
  • 次代の技術シーズ調査担当者/新規研究テーマ探索担当者 など

修得知識

  • メタサーフェスの基礎
  • メタマテリアル/アンテナとの違い
  • メタサーフェスの特徴
  • メタサーフェスの作製方法
  • メタサーフェスの応用と課題・展望 など

プログラム

 自然界にない光学特性を示す人工物質であるメタマテリアルは、製作の困難さから光の波長における製作例は少ない。一方リソグラフィ技術の進展によって、平面的な金属構造を容易に製作することが可能となった。特に金属ナノ構造で生じるプラズモン共鳴などの応答を自在に制御することで、極薄の光学素子を形成する研究が近年進展している。この分野はメタサーフェスと呼ばれ、メタマテリアルの中でも特に実用化に近い分野として期待されている。
 本セミナーでは、メタサーフェスの原理・特徴、作製方法と応用について述べる。

  1. メタマテリアルの基礎
    1. メタマテリアルとは
      1. 物質の電磁場応答
      2. 誘電率と透磁率
      3. 負の屈折率と左手系物質
      4. なぜ自然界に負の屈折率はないのか
      5. メタマテリアルの歴史
    2. メタマテリアルの応用と作成方法
      1. スーパーレンズ
      2. 光クローキング
      3. マイクロ波メタマテリアルの作成方法
      4. 可視メタマテリアルの作成方法
  2. メタマテリアルからメタサーフェスへ
    1. メタサーフェスの基礎と特徴的な光応答
      1. ナノホール配列と異常透過
      2. ナノスリットアレイの光透過
      3. ナノ粒子・ナノロッドの光応答
      4. プラズモニックナノアンテナ
      5. 電磁誘起透明化
      6. MIM共振器
      7. Mie共振器
    2. メタサーフェスの設計・製作法
      1. 電磁場シミュレーション
        • FDTD
        • RCWA
        • COMSOL
      2. リソグラフィとリフトオフ
      3. トップダウン加工法
      4. ボトムアップ加工法
  3. メタサーフェスの応用
    1. メタサーフェス光学素子
      1. レンズ
      2. プラズモン収束レンズ
      3. 偏光子と逆偏光透過
      4. 光アイソレータ
      5. 位相子・波長板
      6. ベクトルビーム生成
      7. ホログラフィ
      8. カーペットクローキング
      9. 熱輻射制御
    2. 可変メタサーフェス
      1. 透過強度変調
      2. カラーフィルタ
      3. 可変レンズ
      4. 位相変調器
      5. キラリティ変調
  4. まとめと今後の展望

会場

江東区産業会館

第5展示室

東京都 江東区 東陽4丁目5-18
江東区産業会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

案内割引・複数名同時申込割引について

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 92,556円(税別) / 99,960円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 138,833円(税別) / 149,940円(税込)
本セミナーは終了いたしました。

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