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マイクロLEDのディスプレイ応用展望とチップ集積化

マイクロLEDのディスプレイ応用展望とチップ集積化

～開発動向と実用化への課題、モノリシック化へ向けた高密度実装技術を探る～
東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、実用化の鍵を握る「マイクロLEDのモノリシック化」について最新動向を詳解いたします。

開催日

  • 2018年10月15日(月) 10時00分 ～ 17時30分

プログラム

第1部 次世代ディスプレイの市場動向とマイクロLEDについて

(2018年10月15日 10:00～11:30)

　有機EL (OLED) を超える究極のディスプレイとして注目を集める「マイクロLED」に関して、現状と予測される将来の市場動向について最新情報をお届けいたします。ソニーの『CLEDIS』などの大型ディスプレイでの採用や、サムスン社のマイクロLEDテレビを含め、「マイクロLED」および「ミニLED」市場について解説いたします。
　なお、当講演のプレゼン資料は台湾の調査会社TrendForce社の協力を得て作成いたします。TrendForceは2000年に創設され、台北市 (台湾) に本社を構えているほか、中国本土にも5か所、現地事務所を設置しています。同社には200名以上の専門家が在籍し、グローバルにリサーチを展開しています。 同社LED市場調査部門であるLEDinsideが提供している年間契約型情報サービス「マイクロLED次世代ディスプレイ業界」は世界で30社以上の企業様にご購読頂いております。
　最新のマーケット動向を中心に有意義なプレゼンをご提供できるかと存じます。

第2部 マイクロLEDチップの集積化技術の検討と技術課題

(2018年10月15日 12:10〜13:40)

　本グループでは、窒化物半導体の結晶成長からデバイス製作までの研究を行ってきました。
　本講演では、最近特に注目を集めるマイクロLEDディスプレイの可能性と実現する上での技術的 課題について述べ、これまで我々の研究室で低コスト化に主眼を置いて取り組んできた下記の検討結果についてご紹介します。

  1. 集積化GaN系マイクロUV発光ダイオードの製作
  2. RIEエッチングによる集積化の検討
  3. ディスクリートLEDチップの集積化の検討
  4. 駆動方法の検討
  5. クロストーク低減の検討
    • 質疑応答

第3部 スパッタリングによる窒化ガリウム成長技術を用いた大面積フレキシブルマイクロLED作製、その可能性

(2018年10月15日 13:50〜15:20)

　μLEDの低コスト化を目指して、量産性の高いスパッタリング法を用いて安価なガラス基板や金属フォイル上に三原色のInGaNのLEDを実現している。

  1. スパッタリング法を用いた窒化物半導体の結晶成長とその材料物性
    1. スパッタリング法を用いた窒化物半導体の結晶成長法の特徴
    2. スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の構造物性
    3. スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の光学特性
    4. スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の電気特性
  2. スパッタリング法を用いた窒化物半導体デバイスの作製とその特性
    1. スパッタリング法を用いた窒化物半導体デバイスの作製
    2. スパッタリング法を用いて作成したショットキーダイオードの特性
    3. スパッタリング法を用いて作成したpnダイオードの特性
    4. スパッタリング法を用いて作成した発光ダイオードの特性
    5. スパッタリング法を用いて作成したMISFETの特性
    6. スパッタリング法を用いて作成したHEMTの特性
  3. 低コスト大面積基板上への窒化物半導体の結晶成長とそのデバイス応用
    1. 金属フォイル上への窒化物半導体成長と3原色LEDの作製
    2. ガラス基板上への窒化物半導体成長と3原色LEDの作製
    3. ポリマーフィルム上への窒化物半導体成長とその素子応用
    • 質疑応答

第4部 封止技術の観点からみたマイクロLEDの課題と展望

(2018年10月15日 15:30〜17:30)

　最近、マイクロLEDが次世代ディスプレイ用光源として注目されている。しかし、マイクロの定義および開発目標が異なっている。技術発表も民生用自発光型ディスプレイ (例; テレビ、スマートフォン) の開発、LEDの性能向上、次世代LEDの学究的研究等が入り混じっている。今回、マイクロLEDの開発状況、技術課題およびその対策に関して分かりやすく説明する。特に、民生用ディスプレイ光源の検討状況について詳しく説明する。 また、業界事情等についても解説する。

  1. 各種ディスプレイ
    1. LCD
    2. LED
    3. OLED
    4. PDP
    5. LCD VS OLED
  2. マイクロLEDの概要
    1. 定義
    2. ディスプレイの解像度
  3. LED製法のマイクロ化課題
    1. 製造方法
    2. 微細加工
    3. ディスプレイ
  4. マイクロLEDディスプレイの検討
    1. スモール化
    2. ミニ化
    3. マイクロ化
  5. マイクロLEDディスプレイの特許
    1. ソニー
    2. X – セレプリント
    3. バイケル・インク
    4. その他
  6. マイクロLEDディスプレイの検討
    1. マイクロLED
    2. 封止技術;封止方法、封止材料
  7. LEDの超微細化
    1. ナノLED
    2. QLED
  8. 単面発光型光源
    1. RCLED
    2. VCSEL
    3. LD
    • 質疑応答
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講師

  • 沖本 真也 氏
    沖為工作室合同会社
    CEO
  • 尾沼 猛儀 氏
    工学院大学 先進工学部 応用物理学科
    教授
  • 藤岡 洋 氏
    東京大学 生産技術研究所
    教授
  • 越部 茂 氏
    有限会社アイパック
    代表取締役
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会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 60,000円 (税別) / 64,800円 (税込)
複数名
: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)

複数名同時受講割引について

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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 165,000円(税別) / 178,200円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
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