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像面位相差AFを中心としたオートフォーカス技術の基礎と最新動向

像面位相差AFを中心としたオートフォーカス技術の基礎と最新動向

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、オートフォーカス技術を概観し、とくに最近話題になっている像面位相差AFや、その発展形としてのリフォーカスカメラについて解説し、将来の動向について詳解いたします。

開催日

  • 2015年6月4日(木) 13時00分 16時45分

プログラム

  1. カメラの自動化におけるAF
    • AE (Automatic Exposure) とAF (Autofocus)
    • なぜAEが先行したか?
  2. 最初に実用化されたオートフォーカスは距離測定方式
    • 三角測量の応用
    • パッシブオートフォーカス
    • アクティブオートフォーカス
  3. デジタルカメラは像面解析方式
    • コントラスト検出法の原理
    • 位相差検出法の原理
    • 一眼レフカメラへの実装
    • 位相差検出法AFの発展
  4. ミラーレスカメラのオートフォーカス
    • コントラスト検出法
    • トランスルーセントミラー
    • 像面位相差検出AF
    • 2PD
  5. ライトフィールドカメラの原理
  6. 今後の展開

講師

  • 豊田 堅二
    日本大学 芸術学部 写真学科
    非常勤講師

会場

株式会社オーム社 オームセミナー室
東京都 千代田区 神田錦町3-1
株式会社オーム社 オームセミナー室の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 43,000円 (税別) / 46,440円 (税込)
1口
: 56,000円 (税別) / 60,480円 (税込) (3名まで受講可)

割引特典について

  • 複数名 同時受講:
    1口 56,000円(税別) / 60,480円(税込) (3名まで受講可能)
本セミナーは終了いたしました。