技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書

特許情報分析(パテントマップ)から見た

Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書

~企業別動向予測シリーズ~
Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書の画像

概要

本調査報告書は、「Intelの米国特許」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。

ご案内

1. 調査目的

 世界の半導体メーカとして長年首位の座に君臨している米国のIntel(Intel Corporation)について、保有特許件数、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、時系列推移、技術分布、技術相関など様々な観点から分析したパテントマップを作成し、

  • (1). 「Intel」にどのような技術を保有しているか、
  • (2). 「Intel」の技術開発動向はどのように推移しているか、
  • (3). 「Intel」の技術で最近注目すべきものは何なのか、
  • (4). 「Intel」と共同出願人との連携状況どのようになっているか、
    等を明確にして、「Intel」の知財の現状につき具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

 本調査報告書は、「Intel」に関する過去10年間(2002年~2011年)に及ぶ米国特許について「特許検索ASPサービスSRPARTNER」((株)日立システムズ 製)を使用し、検索、収集した。
 また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト 「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は15,760件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、次の3章から構成されている。

  • 1. パテントマップ編
    • A. 技術開発成果(特許取得の推移)
    • B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
    • C. 技術開発分野(特許分類・キーワード分析)
      • (1). 部品(memory、processorなど10個をグループ化)
      • (2). 対象・課題(network、imageなど10個をグループ化)
      • (3). 特性(optical、thermalなど10個をグループ化)
      • (4). 手段・方法(interface、detectionなど10個をグループ化)
      • グループ化については巻末の【資料2】キーワードグループ化リストをご参照ください。
    • D. 他社連携(共同出願人分析)
  • 2. パテントチャート編
  • 3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

  • 「Intel」に関する技術動向が分かりやすく把握できる
  • パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい
  • パテントマップ Viewer(添付ソフト)により、パテントマップの当該部分に含まれる特許の詳細内容を調べることができる

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例


目次

はじめに

調査分析結果

1. パテントマップ編

  • A. 技術開発成果(特許取得の推移)
    • 1. 特許件数の推移(年次と累計)
  • B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
    • B-1. 発明者数
      • 1. 発明者数の推移(年次)
      • 2. 発明者数の推移(累計)
      • 3. 新規発明者数の推移(年次)
      • 4. 新規発明者数の推移(累計)
    • B-2. 発明者別特許件数
      • 1. 発明者別特許件数ランキング(上位50)
      • 2. 発明者別特許件数シェア(上位50)
      • 3. 発明者別特許件数の伸長率(上位50)
    • B-3. 発明者活動実態
      • 1. 発明者別登場・退場状況(上位40)
      • 2. 発明者別登場・退場状況(最近40)
      • 3. 発明者別新規米国特許クラス分類数の推移(上位10)
      • 4. 発明者別新規米国特許サブクラス分類数の推移(上位10)
      • 5. 発明者別新規キーワード数の推移(上位10)
      • 6. 特許件数1位発明者の研究開発ライフサイクル
      • 7. 特許件数2位発明者の研究開発ライフサイクル
      • 8. 特許件数3位発明者の研究開発ライフサイクル
      • 9. 発明者の研究開発ポジション
      • 10. 発明者(上位10)と米国特許クラス分類(上位10)の相関
      • 11. 発明者(上位10)と米国特許サブクラス分類(上位10)の相関
  • C. 技術開発分野(特許分類・キーワード分析)
    • C-1. 米国特許分類
      • C-1-1. 分類数
        • 1. 新規クラス分類数の推移(年次)
        • 2. 新規クラス分類数の推移(累計)
        • 3. 新規サブクラス分類数の推移(年次)
        • 4. 新規サブクラス分類数の推移(累計)
      • C-1-2. 分類別特許件数
        • 1. クラス分類別特許件数ランキング(上位50)
          • 表1:米国特許クラス分類リスト(上位50)
        • 2. クラス分類別特許件数シェア(上位50)
        • 3. サブクラス分類別特許件数ランキング(上位50)
          • 表2:米国特許サブクラス分類リスト(上位50)
        • 4. サブクラス分類別特許件数シェア(上位50)
        • 5. クラス分類別特許件数の推移(上位10、年次)
        • 6. クラス分類別特許件数の推移(上位10、累計)
        • 7. サブクラス分類別特許件数の推移(上位10、年次)
        • 8. サブクラス分類別特許件数の推移(上位10、累計)
        • 9. クラス分類別特許件数の伸長率(上位50)
        • 10. サブクラス分類別特許件数の伸長率(上位50)
      • C-1-3. 分類別発明者数
        • 1. クラス分類別発明者数の推移(上位10、年次)
        • 2. クラス分類別発明者数の推移(上位10、累計
        • 3. サブクラス分類別発明者数の推移(上位10、年次)
        • 4. サブクラス分類別発明者数の推移(上位10、累計)
      • C-1-4. 分類別展開
        • 1. クラス分類別出現・消失状況(上位40)
        • 2. クラス分類別出現・消失状況(最近40)
        • 3. サブクラス分類別出現・消失状況(上位40)
        • 4. サブクラス分類別出現・消失状況(最近40)
        • 5. クラス分類の勢力図(上位10)
        • 6. サブクラス分類の勢力図(上位10)
    • C-2. キーワード
      • C-2-1. キーワード別特許件数
        • 1. 部品キーワード特許件数ランキング
        • 2. 対象・課題キーワード特許件数ランキング
        • 3. 特性キーワード特許件数ランキング
        • 4. 手段・方法キーワード特許件数ランキング
        • 5. ク部品キーワード特許件数の伸長率
        • 6. 対象・課題キーワード特許件数の伸長率
        • 7. 特性キーワード特許件数の伸長率
        • 8. 手段・方法キーワード特許件数の伸長率
        • 9. 部品キーワード別特許件数の推移(年次)
        • 10. 対象・課題キーワード別特許件数の推移(年次)
        • 11. 特性キーワード別特許件数の推移(年次)
        • 12. 手段・方法キーワード別特許件数の推移(年次)
        • 13. 部品キーワードの特許件数のシェア
        • 14. 対象・課題キーワードの特許件数のシェア
        • 15. 特性キーワードの特許件数のシェア
        • 16. 手段・方法キーワードの特許件数のシェア
        • 17. キーワード別出現・消失状況(最近40)
      • C-2-2. キーワード別発明者数
        • 1. 部品キーワード別発明者数の推移(主要10、年次)
        • 2. 対象・課題キーワード別発明者数の推移(主要10、年次)
        • 3. 特性キーワード別発明者数の推移(主要10、年次)
        • 4. 手段・方法キーワード別発明者数の推移(主要10、年次)
      • C-2-3. キーワード別展開
        • 1. 部品キーワードの勢力図(主要10)
        • 2. 対象・課題キーワードの勢力図(主要10)
        • 3. 特性キーワードの勢力図(主要10)
        • 4. 手段・方法キーワードの勢力図(主要10)
      • C-2-4. キーワード間相関
        • 1. 部品キーワードと対象・課題キーワードの相関
        • 2. 部品キーワードと特性キーワードの相関
        • 3. 部品キーワードと手段・方法キーワードの相関
        • 4. 対象・課題キーワードと特性キーワードの相関
        • 5. 対象・課題キーワードと手段・方法キーワードの相関
        • 6. 特性キーワードと手段・方法キーワードの相関
  • D. 他社連携(共同出願人分析)
    • 1. 共同出願人連携状況
    • 2. 共同出願人別発明者数ランキング(上位50)
    • 3. 共同出願人別特許件数占有率(上位20)
    • 4. 共同出願人別新規発明者数の推移(特許件数上位20、年次)
    • 5. 共同出願人別参入・撤退状況(特許件数ランキング順)
    • 6. 共同出願人別参入・撤退状況(最近20)
    • 7. 共同出願人別特許件数の推移(特許件数上位20、年次)
    • 8. 共同出願人別新規クラス分類数の推移(特許件数上位20、年次)
    • 9. 共同出願人(上位20)とクラス分類(上位20)の特許件数相関

2. パテントチャート編

  • 1. 共同出願人Analog Devices, Inc.の時系列チャート分析
  • 2. 共同出願人Hewlett-Packard Companyの時系列チャート分析
  • 3. 共同出願人Indian Institute of Technologyの時系列チャート分析
  • 4. 共同出願人Analog Devices, Inc.の上位3サブクラス分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析
  • 5. 共同出願人Hewlett-Packard Companyの上位3サブクラス分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析
  • 6. 共同出願人Indian Institute of Technologyの上位3サブクラス分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析

3. 総括コメント

参考資料

  • 資料1 : 出願人統合リスト
  • 資料2 : 発明者統合リスト
  • 資料3 : キーワードグループ化リスト
  • 資料4 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方
  • 資料5 : パテントマップ Viewer(添付ソフト)の使い方

出版社

お支払い方法、返品の可否は、必ず注文前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判 簡易製本 (Viewerソフトウェア添付) 128ページ

ISBNコード

ISBN978-4-86483-100-0

発行年月

2012年4月

販売元

tech-seminar.jp

価格

56,328円 (税別) / 61,961円 (税込)

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/5/31 車載半導体の最新技術と今後の動向 オンライン
2024/5/31 遺伝子治療のベクター、プロモーター、化学修飾、DDS技術を中心とした特許戦略 オンライン
2024/5/31 特許から紐解く、自動運転の将来とは? 東京都 会場・オンライン
2024/5/31 モノづくり企業が知っておきたい知的財産契約の基礎知識 オンライン
2024/5/31 研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工 オンライン
2024/6/4 AIによって開発された医薬・診断技術の特許申請・知財保護戦略 オンライン
2024/6/6 生成AI、ChatGPTによる知財業務、用途探索への活用 オンライン
2024/6/6 コンテンツIPビジネス最前線とメディア企業で求められる攻めと守りの戦略 東京都 会場・オンライン
2024/6/7 研究開発・技術部門が行う特許情報調査の基本とすすめ方、調査精度を高めるポイント オンライン
2024/6/7 半導体表面におけるウェットプロセスの基礎と最新動向 大阪府 会場
2024/6/10 特許調査・明細書の読み方・パテントマップの作成、活用による技術と知財戦略の実践方法 オンライン
2024/6/10 遺伝子治療のベクター、プロモーター、化学修飾、DDS技術を中心とした特許戦略 オンライン
2024/6/10 SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向 オンライン
2024/6/11 簡単な回路から始めるアナログ設計と実装の基礎 東京都 会場・オンライン
2024/6/11 ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用 オンライン
2024/6/11 他社特許を分析して事業に役立つ強い特許を取得する権利化戦略 オンライン
2024/6/11 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 オンライン
2024/6/11 薬機法の実務を考慮した医薬品特許戦略の新たな視点 オンライン
2024/6/11 新規モダリティ医薬事業価値最大化のための薬価戦略・事業化戦略策定のポイント オンライン
2024/6/12 事例に沿って解説する特許等調査の実践的方法、特許公報等の読み方、調査報告書の作成方法 東京都 会場

関連する出版物

発行年月
2024/4/15 テンセント (騰訊Tencent) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版)
2024/4/15 テンセント (騰訊Tencent) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版) (CD-ROM版)
2024/3/11 アリババ (阿里巴巴 Alibaba) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版)
2024/3/11 アリババ (阿里巴巴 Alibaba) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版) (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/7/29 費用対効果に基づく外国特許出願国の選び方・進め方
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/4/4 軸受6社 技術開発実態分析調査報告書
2022/4/4 軸受6社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2021/3/31 経営・事業戦略に貢献する知財価値評価と効果的な活用法
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望